[아시아경제 문채석 기자]반도체·디스플레이 소재기업인 동진쎄미켐 이 1분기 중 일본 수출규제 대상 품목 중 하나인 포토레지스트 증설공장을 짓는다.
15일 산업통상자원부에 따르면 동진쎄미켐은 극자외선(EUV)용 포토레지스트의 바로 전 단계인 반도체용 불화아르곤액침(ArF-immersion) 포토레지스트를 국내 최초로 개발해 생산했다.
회사는 올해 1분기 중 불화크립톤(KrF), 불화아르곤(Arf) 등 포토레지스트를 생산하는 공장 증설을 시작할 예정이다.
증설공장이 계획대로 완공돼 내년 초 정상 가동되면 동진쎄미켐은 국내 포토레지스트 생산량을 현재보다 2배 이상 늘릴 수 있다.
포토레지스트는 감광재로 반도체의 노광(Photo) 공정 단계에서 웨이퍼 기판에 패턴을 형성하기 위해 필수적으로 사용된다.
반응하는 빛의 파장에 따라 주로 KrF(248nm), ArF(193nm), EUV(13.5nm)용 등으로 구분되며 반응하는 빛의 파장이 짧을수록 미세한 공정을 할 수 있다.
포토레지스트는 그동안 일본으로부터의 수입에 대부분 의존해왔지만, 일본의 수출규제 이후 대일 수입의존도를 낮춰 공급 안정성을 빠르게 확보해가는 중이다.
한국무역협회에 따르면 포토레지스트의 대일 수입 비중은 지난해 1∼6월 92%에서 7∼11월 85%로 떨어졌다.
벨기에(RMQC), 미국(듀폰), 독일(머크) 등 일본 외 국가로 수입국을 다변화했고, 최근에는 듀폰이 EUV용 포토레지스트 개발·생산시설을 충남 천안에 구축하기로 결정했다.
국내 기술개발, 양산평가 등을 통해 포토레지스트의 국내 기술력도 계속 확보해 나갈 예정이다.
정승일 산업부 차관은 "지난해 7월 일본 수출규제 이후 민관이 힘을 합쳐 노력해 온 결과 포토레지스트를 포함해 3대 품목 등 핵심소재의 공급 안정성이 확보돼 가고 있다"며 "동진쎄미켐의 생산공장 증설 착공 등으로 포토레지스트의 국내 공급 안정성이 한층 더 강화될 것"이라고 기대했다.
문채석 기자 chaeso@asiae.co.kr
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