"ASML 잡아라" 日캐논, 반도체 장비 신공장 짓는다…5000억원 투입

[아시아경제 정현진 기자] 일본의 반도체 제조 장비 업체 캐논이 5000억원 이상을 투입해 2025년까지 생산능력을 2배로 확대한다. 캐논은 반도체 업계의 '슈퍼을'로 불리는 네덜란드 ASML처럼 노광장비(반도체 회로형성에 사용)를 만드는 회사다. 캐논은 신공장 건설과 함께 저비용으로 첨단 미세회로를 만들 수 있는 차세대 장비 개발에 나설 계획이다.

니혼게이자이신문은 5일 캐논이 일본 혼슈 남동부 도치기현에 신공장을 짓는다고 보도했다. 캐논은 현재 일본 내에 우쓰노미야 사업소와 아미 사업소 등 2곳에서 노광장비를 생산하고 있다. 이 중 우쓰노미야 사업소 내 공터에 21년 만에 신공장을 짓겠다는 것이다. 2023년 착공해 2025년 봄 가동을 목표로 하며 투자 비용은 500억엔(약 5000억원) 중반이 될 것으로 전망된다.

보도에 따르면 캐논의 올해 반도체 노광장비 판매 대수는 전년대비 29% 증가한 180대로 예상된다. 반도체 수요가 급증하면서 최근 10년 새 4배 증가한 규모라고 니혼게이자이는 전했다. 캐논은 이번 신공장 건설로 일본 내 2개 사업소에서 생산되는 장비 수를 크게 늘려 수요에 대응할 계획이다.

반도체 노광장비는 반도체 핵심 공정인 회로형성에 사용된다. 반도체를 만들 때 빛으로 웨이퍼에 회로를 새기는데 이 때 필요한 장비인 것이다. 노광장비 시장에서 캐논은 네덜란드 반도체 장비 업체인 ASML에 이어 점유율 2위 업체다. ASML은 60%, 캐논은 30% 수준으로 높은 점유율을 기록하고 있다. 삼성전자, 미국 인텔, 대만 TSMC 등 글로벌 반도체 업체들이 공장 신설 계획을 내놓고 있는 상황에서 장비 수요 확대에 대응해 생산능력을 키우기로 한 것으로 풀이된다.

캐논은 신공장 건설과 함께 2025년 생산을 목표로 차세대 장비 개발을 진행한다. 캐논이 집중하고 있는 기술은 '나노임프린트'로, 차세대 반도체나 디스플레이 등에 나노급 회로를 새겨 넣기 위해 나노패턴이 새겨진 일종의 도장(스탬프)을 웨이퍼나 플렉서블한 필름 위에 찍어내는 기술이다. 기존 노광공정에 비해 제조비용이 낮고 간단한 제조공정으로 첨단 미세회로를 형성할 수 있다고 니혼게이자이는 설명했다. 캐논이 주도해 키옥시아와 대일본인쇄가 기술 개발에 참가하고 있다.

니혼게이자이는 "ASML의 극자외선(EUV) 노광장비가 첨단 반도체 제작에 필수이지만 가격이 비싸고 소비전력도 커 나노임프린트가 실용화하면 EUV에 비해 노광공정 제조비용을 최대 40%, 소비전력은 90%까지 줄일 수 있을 것으로 전망된다"면서 "캐논은 나노임프린트 판매를 확대해 ASML의 아성을 무너트리는 것을 목표로 한다"고 전했다.

정현진 기자 jhj48@asiae.co.kr