바스프, 포토리소그래피 산업용 고효율·저탄소 황색광 솔루션 공개

첨단 반도체 애플리케이션 위한 530nm 이하 파장 차단 기술
기존 형광등 및 LED 대비 에너지·비용 효율성 향상

바스프는 반도체와 인쇄회로기판, 디스플레이 제조, LED 생산, 태양광 에너지 등 포토리소그래피 기반 산업용 차세대 황색광 솔루션을 공개했다고 18일 밝혔다.

바스프가 새로 공개한 포토리소그래피 산업용 고효율·저탄소 황색광 솔루션. 바스프

해당 기술은 황색광 공정에 필요한 엄격한 스펙트럼 제어를 유지하면서도 기존 황색 형광등과 필터 기반 LED를 완전히 대체한다. 또 높은 에너지 효율, 낮은 전력 소비, 탄소 발자국 저감을 제공한다.

기존의 황색 형광등은 민감한 공정을 보호하기 위해 530nm 이하의 단파장을 차단하지만, 이러한 필터링 과정에서 에너지가 낭비된다. 반면 바스프의 새로운 솔루션은 흡수-변환 메커니즘을 사용해 첨단 반도체 애플리케이션을 위해 530nm 이하 파장을 차단하는 등 유해한 파장을 차단할 뿐만 아니라, 이를 유용한 황색광으로 변환해 에너지 사용과 시스템 성능을 극대화한다.

또 스펙트럼 청정성, 균일한 밝기, 시각적 편안함을 보장하며, 튜브, 패널, 방폭형 조명 등 기존 조명 기기에 원활하게 적용할 수 있다. 현재 사용 중인 전력 및 열 관리 시스템과 호환돼 설치를 간소화하고 도입 리스크를 줄인다.

신규 황색광 솔루션은 기존의 황색 형광등 및 LED 황색광 튜브 대비 대비 낮은 전력 소비로 동일한 밝기를 구현해 전기 및 냉각 비용 절감을 기대할 수 있다. 기존 형광등 또는 필터 기반 LED에서 바스프 솔루션으로 전환 시 에너지 사용량 25% 절감할 수 있다는 설명이다. 또 낮은 열 전달로 안정성과 수명을 높였고 RoHS 및 REACH 규정도 충족했다. 바스프는 실제 반도체 공정에서 5년 이상 사용한 결과 측정 가능한 성능 저하가 나타나지 않았다고 말했다.

바스프 황색광 솔루션은 클린룸 조명과 리소그래피, PCB 검사 및 엄격한 단파장 제어가 필요한 공정에 적용할 수 있다. 바스프와 파트너사는 고효율·저탄소 조명 환경 도입을 가속화하기 위해 샘플링, 현장 평가, 탄소발자국 분석을 포함한 기술 지원을 제공한다.

장보경 기자 jbg@asiae.co.kr