为先进半导体应用屏蔽530nm以下波长的技术
相比传统荧光灯和LED提升能源与成本效率
巴斯夫18日表示，已发布面向光刻技术基础产业的下一代工业用黄光解决方案，适用于半导体、印刷电路板、显示器制造、LED生产以及太阳能等领域。
该技术在保持黄光工艺所需的严格光谱控制的同时，可完全取代传统黄光荧光灯和基于滤光片的LED。此外，还具备高能效、低功耗，并可降低碳足迹。
传统黄光荧光灯为保护敏感工艺，会阻断530nm以下的短波长，但在这一过滤过程中会造成能源浪费。相比之下，巴斯夫的新方案采用吸收—转换机制，不仅能够为先进半导体应用阻断包括530nm以下波长在内的有害波段，还能将其转换为有用的黄光，从而最大化能源利用和系统性能。
该方案还可确保光谱纯净度、亮度均匀性和视觉舒适度，并能顺畅应用于现有的照明设备，如灯管、面板以及防爆灯具等。它与当前使用的电力及热管理系统兼容，可简化安装并降低导入风险。
与传统黄光荧光灯及LED黄光灯管相比，新黄光解决方案在更低功耗下即可实现相同亮度，有望降低用电和冷却成本。据介绍，从传统荧光灯或基于滤光片的LED切换至巴斯夫方案后，能源使用量可减少25%。同时，由于热传递更低，提升了稳定性和使用寿命，并符合限制有害物质指令和化学品注册、评估、许可与限制法规要求。巴斯夫表示，在实际半导体工艺中使用超过5年，未出现可测量的性能下降。
巴斯夫黄光解决方案可应用于洁净室照明、光刻、印刷电路板检测以及所有需要严格短波长控制的工艺。巴斯夫及其合作伙伴将提供包括样品供应、现场评估和碳足迹分析在内的技术支持，以加速高效低碳照明环境的导入。
本报道由人工智能(AI)翻译技术生成。
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