관련특허출원 2004년 이후 최근 5년간 연평균 13.1%씩 줄어

냉장고 많이 쓰이는 프레온(CFC)가스가 내년부터 사용 금지돼 역사의 뒤안길로 사라진다.

프레온가스는 냉매용 화학물질로 1931년 DuPont사와 GM사와 협력해서 Freon-12(CC12F2) 및 -11(CC13F)상품으로 만들어 팔기 시작한 이래 여러 곳에 널리 쓰여 왔다.

전자제품 세정제, 차량·선박·냉장고·건물용 냉매, 단열재·포장재·의류용의 발포제, 화장품·의료용의 에어로솔(aerosol) 등으로 사용되는 유용한 물질이다.

그러나 프레온가스는 지구온난화현상을 일으키는 오존층 파괴물질 주범으로 끊임없이 공해 없는 물질로 바꿔야한다는 과학계 지적이 있어 왔다.

국제사회는 1987년 프레온가스 등과 같은 오존파괴물질 생산·사용을 규제키 위한 국제협약(몬트리올의정서)을 맺어 이들 물질의 단계적 감축과 규제일정을 내놨고 우리나라는 1992년 이 협약에 가입했다.

이런 가운데 프레온가스 대체물질로 수소화염화불화탄소(HCFC)가 개발, 관련출원이 늘고 있으나 이 역시 오존파괴물질로 2016년부터 생산·사용이 규제될 운명에 놓였다.

최근 환경친화적이면서 프레온가스를 대체하는 수소화불화탄소(HFC), 과불화탄소(PFC)가 나와 세(勢)를 넓혀가는 추세며 사용규제는 아직껏 없다.

특허청 통계에 따르면 CFC, HCFC 출원율은 2004년까지 꾸준했으나 2004년을 정점으로 줄고 있다. 최근 5년간 평균 감소율은 13.1%. 공해물질로 취급받고 있는 까닭이다.

반면 HFC, PFC출원은 2004년 이후 급증, 최근까지 증가세다. 최근 5년 평균 증가율은 25.7%.

두 물질의 외국인 출원은 내국인 출원(최근 5년 평균 11.1%)보다 절대적으로 많다.

HFC, PFC가 당분간 프레온가스를 대체하는 물질로서 외국기업들이 개발을 거의 독점하고 있는 것으로 풀이된다.

강영진 특허청 화학소재과 심사관은 “내년에 프레온가스 사용이 금지되고 2016년 HCFC가 규제되므로 해당기술 분야 물질개발·출원이 산업계 적용 싯점보다 3~5년 앞선다는 점을 감안할 때 2010~2012년이 프레온가스 대체물질을 특허로 선점하려는 격전의 해가 될 것”이라고 말했다.

그는 “프레온가스 대체물질 연구개발은 모든 산업분야에 큰 영향을 미치므로 업종에 관계없이 프레온가스 대체물질연구가 시급하다”면서 “이를 통해 국내 산업계 보호와 외국기업의 특허권에 의한 국내 기업들 피해를 최소화할 수 있을 것”이라고 덧붙였다.

왕성상 기자 wss4044@asiae.co.kr
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