'반도체 기술 유출' 삼성전자 前 직원 항소심서 1년6개월 실형

최신 반도체 초미세 공정과 관련된 국가핵심기술과 영업비밀 등을 유출한 혐의를 받는 삼성전자 전직 직원이 항소심에서 실형을 선고받았다.

17일 서울중앙지검 정보기술범죄수사부(부장검사 이성범)에 따르면 서울고법은 지난 14일 부정경쟁방지법 위반·산업기술보호법 위반 혐의 등으로 기소된 전 삼성전자 엔지니어 최모씨(44)에게 징역 1년6개월의 실형과 벌금 1000만원을 선고하고 법정구속했다.

최씨는 삼성전자에서 일하면서 해외 경쟁업체인 인텔로 파운드리 반도체 핵심 기술이 담긴 파일을 유출하려 한 혐의로 재판에 넘겨졌다. 인텔로 이직을 준비하던 최씨는 최신 반도체 초미세 공정과 관련된 33개 파일을 외부에서 열람한 뒤 이를 촬영해 빼돌린 것으로 파악됐다.

검찰은 최씨에게 징역 5년에 벌금 1억원을 구형했지만 1심 재판부는 징역 1년6월에 집행유예 2년, 벌금 1000만원을 선고했다. 검찰은 항소했다.

검찰은 "앞으로도 국가핵심기술 및 영업비밀 유출 사범에 신속하고 엄정히 대응하겠다"고 밝혔다.

이정윤 기자 leejuyoo@asiae.co.kr