참엔지니어링, 마스크 리페어 장치 특허권 취득

[아시아경제 이민아 기자] 참엔지니어링 은 마스크 리페어 장치에 관한 특허권을 취득했다고 23일 공시했다.

이번에 특허를 취득한 마스크 리페어 장치는 반도체 또는 평판 디스플레이 제조용 마스크상의 이물질을 레이저로 조사하고, 4개의 동작축을 갖는 니들을 이용해 잔류 물질을 파내 제거하는 장치다.

참엔지니어링은 특허기술을 활용해 반도체 또는 평판디스플레이 장비의 경쟁력을 강화하는 데 활용할 계획이라고 밝혔다.

이민아 기자 malee@