EUV 도입한 인텔, '7나노' 유럽서 첫 양산…미세공정 경쟁 본격화

인텔4, EUV 기술 도입한 인텔 첫 공정
아일랜드 신규 팹서 메테오 레이크 생산

인텔이 유럽 신규 공장에서 극자외선(EUV) 노광 장비를 도입해 7나노미터(㎚·1㎚는 10억분의 1m)대 제품 양산에 나선다. 선단 공정 경쟁력을 끌어올릴 EUV 기술 도입을 본격화한 첫 사례다.

인텔은 아일랜드 레익슬립에 있는 신규 공장인 팹34에서 EUV 기술을 적용한 인텔4(7㎚급) 공정 양산을 시작했다고 4일 밝혔다. 미국 오레곤주 팹에서 기술 개발 및 초기 생산을 진행한 데 이어 유럽 핵심 생산 기지인 아일랜드 신규 팹에서 본격적으로 인텔4 공정에 EUV 기술을 도입, 제품 양산에 나섰다.

인텔이 반도체 공정에 EUV 장비를 도입하는 것은 인텔4가 처음이다. EUV 장비는 7㎚ 이하 고급 반도체 생산에 쓰이는 필수 장비로 웨이퍼(반도체 원판)에 회로 패턴을 그릴 때 쓰인다. 인텔은 인텔 4 공정부터 EUV 장비를 도입, 향후 미세 공정 경쟁력을 강화한다는 목표다.

실제 인텔은 2025년까지 ▲인텔7(10㎚급) ▲인텔4 ▲인텔3(4㎚급) ▲인텔 20A(2㎚급) ▲인텔 18A(1.8㎚급) 등 다섯 개 공정을 완성하겠다는 목표를 제시한 바 있다. 그간 EUV 도입을 포함한 기술 개발에 뒤처졌지만 앞으로 속도감 있게 사업을 추진해 경쟁력을 높인다는 구상이다.

인텔은 팹34에서 소비자용 중앙처리장치(CPU)로 연내 선보이려 하는 코어 울트라 프로세서(코드명: 메테오 레이크)를 선보일 예정이다. 인텔3(4㎚급) 공정을 통해 내년에 출시하려 하는 차세대 제온 프로세서도 내놓을 계획이다.

한편 인텔은 팹34가 유럽 내 첨단 반도체 제조 공급망을 구축하는 데 있어 도움이 될 것으로 기대하고 있다. 팻 겔싱어 인텔 최고경영자(CEO)는 "아일랜드는 항상 인텔 장기 전략 핵심이었다"며 "팹34는 탄력적이고 지속 가능한 반도체 공급망을 구축하려는 유럽연합(EU) 목표에 기여할 것"이라고 말했다.

김평화 기자 peace@asiae.co.kr