引入EUV的英特尔在欧洲首次量产“7纳米”工艺…先进制程竞争全面升级

by Kim Pyeonghwa

Published 04 Oct.2023 15:02(KST)

Updated 04 Oct.2023 16:12(KST)

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Intel 4：采用EUV技术的首个Intel制程
在爱尔兰新晶圆厂量产Meteor Lake

英特尔在欧洲新建工厂引进极紫外线（EUV）光刻设备，开始量产7纳米（nm，1nm为10亿分之一米）级产品。这是正式启动采用EUV技术、以提升先进制程竞争力的首个案例。

英特尔4日表示，已在位于爱尔兰莱克斯利普的新工厂Fab 34启动应用EUV技术的Intel 4（7nm级）制程量产。在美国俄勒冈州工厂完成技术开发及初期生产之后，英特尔又在其欧洲核心生产基地——爱尔兰新Fab中正式将EUV技术导入Intel 4制程并开始产品量产。

英特尔在半导体制程中导入EUV设备，是从Intel 4开始的。EUV设备是生产7nm及以下高端半导体时不可或缺的关键设备，用于在晶圆（半导体基板）上绘制电路图案。英特尔从Intel 4制程起导入EUV设备，目标是在今后强化其在先进制程领域的竞争力。

实际上，英特尔此前提出目标：到2025年完成包括▲Intel 7（10nm级）▲Intel 4 ▲Intel 3（4nm级）▲Intel 20A（2nm级）▲Intel 18A（1.8nm级）在内的五大制程。尽管此前在包括EUV导入在内的技术开发方面一度落后，但公司计划今后加快业务推进速度，以提升竞争力。

英特尔还将在Fab 34生产计划于年内推出的面向消费者的中央处理器（CPU）——Core Ultra处理器（代号：Meteor Lake）。公司也计划通过Intel 3（4nm级）制程，推出拟于明年上市的下一代至强（Xeon）处理器。