이재용 새해 첫 경영 행보는 '반도체연구소'…'3나노 반도체' 개발 점검

[아시아경제 김혜원 기자] 이재용 삼성전자 부회장이 2일 새해 첫 일정으로 경기도 화성사업장 내에 있는 반도체연구소를 찾았다.

이 부회장은 이날 반도체연구소에서 삼성전자가 세계 최초로 개발한 3나노 공정기술을 보고 받고 DS(디바이스솔루션) 부문 사장단과 차세대 반도체 전략을 논의했다.

이 부회장이 새해 첫 경영 행보를 반도체 개발 현장에서 시작한 것은 메모리에 이어 시스템 반도체 분야에서도 세계 1위가 되겠다는 비전을 다시 한 번 임직원과 공유하며 목표 달성 의지를 다지기 위한 것으로 풀이된다.

이 부회장은 현장에서 "과거의 실적이 미래의 성공을 보장해주지 않는다"며 "역사는 기다리는 것이 아니라 만들어 가는 것이다. 잘못된 관행과 사고는 과감히 폐기하고 새로운 미래를 개척해 나가자"고 당부했다.

그는 이어 "우리 이웃, 우리 사회와 같이 나누고 함께 성장하는 것이 우리 사명이자 100년 기업에 이르는 길임을 명심하자"고 강조했다.

반도체 미세화의 한계를 극복할 수 있는 차세대 기술인 'GAA(Gate-All-Around)'를 적용한 3나노 반도체는 최근 공정 개발을 완료한 5나노 제품에 비해 칩 면적을 35% 이상 줄일 수 있으며 소비 전력을 50% 감소시키면서 성능(처리속도)은 약 30% 향상시킬 수 있다는 게 회사 측 설명이다.

특히 파운드리(반도체 위탁생산) 글로벌 1위 업체인 대만 TSMC와 선두를 겨루고 있는 기술이자, 지난해 삼성전자가 발표한 '반도체 비전 2030' 실현을 위한 핵심 기술로 꼽힌다.

삼성전자는 2030년까지 총 133조원을 투자해 시스템 반도체 글로벌 1위로 올라서겠다고 밝힌 바 있다.

김혜원 기자 kimhye@asiae.co.kr