삼성전자·SK하이닉스 '반도체 기술 中유출' 협력사 임직원 징역형

삼성전자와 SK하이닉스의 반도체 핵심기술을 중국으로 빼돌린 혐의로 재판에 넘겨진 국내 협력업체 임직원들이 1심에서 징역형을 선고받았다.

13일 오전 서울중앙지법 형사25-3부(부장판사 지귀연)는 산업기술보호법 위반 등 혐의로 기소된 국내 반도체 장비업체 M사의 부사장 신모씨에게 징역 1년을 선고했다. 연구소장 임모씨와 영업그룹장 박모씨는 모두 징역 1년6개월에 집행유예 2년과 벌금 3000만원을 선고받았다. 함께 기소된 품질그룹장 등 다른 임직원 대부분도 유죄가 인정돼 징역형의 집행유예 또는 벌금형을 선고받았다. M사 법인엔 벌금 4억원이 선고됐다.

임씨와 박씨 등은 2018년 8월부터 2020년 6월까지 SK하이닉스의 HKMG 반도체 제조 기술과 세정 레시피 등 국가 핵심첨단기술을 중국 반도체 경쟁업체에 유출한 혐의로 2021년 1월 재판에 넘겨졌다. HKMG 기술은 D램 반도체의 성능을 높이기 위해 신소재를 사용한 최신 반도체 제조 공정 기술이다. 신씨 등은 삼성전자 자회사인 세메스의 전 직원을 통해 취득한 초임계 세정장비 도면 등 반도체 첨단기술과 영업비밀을 몰래 활용해 중국 수출용 장비로 개발한 혐의로 기소됐다. 세메스가 세계 최초로 개발한 초임계 세정장비는 삼성전자가 10나노급 D램 반도체 제조에 사용하는 핵심 기술로, 액체 이산화탄소를 활용해 반도체 세정용 화학물질을 건조한다.

검찰은 국정원 산업기밀보호센터의 정보를 받고 수사에 착수했다. 이들은 관련 기술을 M사가 소유했다며 혐의를 부인했지만, 재판부는 대부분의 혐의를 유죄 판단했다. 세메스 관련 혐의의 공범으로 기소된 M사의 다른 임직원들과 전 세메스 직원은 별도로 진행된 1심에서 각각 징역 1년~1년6월개월을 선고받고 항소한 상태다.

한편 대검찰청은 지난 4월 '검찰사건처리기준 개정안'을 전국 일선 검찰청에 전달하고 국가 핵심기술 국외 유출 범죄를 구속해 수사하는 등 엄정 대처하기로 했다. 국가 핵심기술 국외 유출은 기본 구형 7년, 산업기술 유출은 기본 구형 5년 등으로 구형 기준도 높였다. 피해 규모도 주요 양형 인자로 도입할 방침이다. 대검에 따르면 2017년부터 6년간 총 117건의 산업기술 국외 유출이 적발됐고, 여기서 약 30.7%(36건)가 국가 핵심기술 유출 사건이었다. 2017년부터 지난해 9월까지 기업 예상 매출액, 연구개발비 등을 기초로 추산된 피해 규모는 약 26조원에 달했다.

김대현 기자 kdh@asiae.co.kr