특허청, 18일 서울 동대문디자인플라자에서 ‘한·중·일 디자인포럼’…우리나라, 중국, 일본 특허청전문가들 디자인보호 당면과제 및 해결방안 논의
특허청은 중국·일본특허청과 공동으로 18일 오전 10시 서울 동대문디자인플라자(DDP) 국제회의실에서 ‘한·중·일 디자인포럼’을 연다고 밝혔다.
올해 포럼은 때마침 1961년 만들어진 뒤 가장 많이 바뀐 ‘디자인보호법’과 ‘헤이그협정에 따른 국제디자인등록출원제도’ 시행을 보름여 앞두고 열려 뜻있는 행사라는 게 특허청의 설명이다.
올해 포럼 행사주제는 ‘Design, beyond protection’으로 디자인의 법적 보호내용과 3D프린터 대중화 등 ▲동아시아 3국의 디자인계에서 일어나고 있는 변화 움직임 ▲디자인의 공유?활용으로 제3세계 돕기 ▲지역사회산업을 되살리는 사례 등 디자인의 여러 면들을 다룬다.
김영민 특허청장은 “한·중·일 디자인포럼을 통해 디자인권 중요성에 대한 인식이 높아지길 바란다”며 “창조경제 핵심엔진인 디자인 창작이 더 활성화되고 창작자 노력이 정당하게 보호될 수 있게 제도적 바탕을 다지겠다”고 말했다.
왕성상 기자 wss4044@asiae.co.kr
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