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'위기'에 투자한 삼성전자, 반도체 시설투자 선도

최종수정 2018.09.08 21:17 기사입력 2014.03.28 11:08

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반도체 업계 시설투자 집행 순위(자료 : IC인사이츠)

[아시아경제 명진규 기자]삼성전자가 지난 2012년부터 올해까지 매년 110억 달러에 달하는 시설투자(CapEx)에 나서며 반도체 시장 지배력 강화에 나서고 있어 주목된다.

특히 '위기에 투자하고 호황기에 실적을 낸다'는 삼성전자 특유의 투자 패턴이 이어지며 경쟁사 보다 먼저 투자하고 경쟁사들이 쫓아올 때는 실적을 거두며 반도체 업계를 선도하고 있는 것으로 나타났다.
27일 반도체 시장조사업체 IC인사이츠에 따르면 삼성전자는 반도체 시설투자로 지난 2012년 122억2500만 달러, 2013년 115억6000만 달러를 집행한데 이어 올해 115억 달러를 투자할 전망이다.

인텔은 올해 110억 달러의 시설투자에 나설 전망이다. TSMC는 97억5000만 달러를 투자한다. 뒤를 이어 글로벌파운드리는 55억 달러, SK하이닉스는 37억 달러를 집행한다. 마이크론과 도시바는 각각 30억5000만 달러, 19억5000만 달러의 시설투자에 나설 계획이다.

최근 3년간 반도체 업계의 시설투자 추이를 지켜보면 삼성전자는 '위기에 투자하고 호황기에 실적을 낸다'는 투자 원칙을 충실하게 지키고 있다.
지난 2012년 메모리 반도체 시장은 D램 가격이 1달러 아래까지 떨어지는 등 급락세를 거듭하고 있었다. 경쟁업체 대다수는 시설투자를 줄이기 시작했는데 삼성전자는 오히려 투자 규모를 늘렸다.

지난해 D램, 낸드플래시 등 주요 반도체 가격이 오르기 시작하자 삼성전자는 시설투자비를 전년대비 5% 줄여 115억6000만 달러를 집행했다. 줄어들긴 했지만 여전히 업계 최고 수준이었다.

삼성전자는 올해도 시설투자비를 1% 가량 줄인다. 삼성전자는 지난해 3D 낸드플래시 공정 개발을 완료해 양산을 시작한데 이어 올해 초 D램의 미세공정 한계로 여겨지던 20나노의 벽을 깨고 20나노 4기가비트 D램 양산을 시작했다. 삼성전자는 현재 10나노급 공정 기술을 개발중이다.

삼성전자를 제외한 나머지 반도체 업체들은 모두 시설투자비를 크게 늘린다. 샌디스크는 전년 대비 시설투자를 86% 가량 늘렸고 마이크론은 58% 늘려 30억000만 달러를 투자한다. SK하이닉스도 시설투자 규모를 18% 가량 확대했다.

모두 삼성전자 대비 뒤쳐진 미세공정 도입을 위한 시설 확대, 3D 반도체 생산 설비 등을 갖추기 위해 사용될 전망이다.

삼성전자 관계자는 "시황에 따른 일시적인 투자가 아닌 장기적 관점에서의 전략적인 투자를 통해 시장 경쟁력을 강화해 나가고 있다"면서 "꾸준한 투자를 집행하며 불황기에 오히려 신기술 개발에 투자를 집중하며 세계 반도체 시장 1위 자리를 지켜갈 것"이라고 말했다.



명진규 기자 aeon@asiae.co.kr
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