에스앤에스텍, 호야와의 특허무효소송 '승소'

에스앤에스텍이 약 3년 4개월간의 소송 끝에 일본 경쟁업체 호야(HOYA)의 특허무효판결을 받아냈다.

에스앤에스텍(대표 남기수)은 특허법원의 위상시프트 블랭크마스크(Phase Shift Blank Mask) 특허무효 판정에 대한 호야 측의 상고를 26일 대법원이 기각, 호야와의 특허무효소송에서 최종 승소했다고 1일 밝혔다.

무효 처리된 호야의 특허는 반도체 제조 시 패턴의 정밀도를 획기적으로 향상시킬 수 있는 하이엔드(high-end)급 위상시프트 블랭크마스크에 관한 것이다.

위상시프트 블랭크마스크는 반도체 집적도가 향상됨에 따라 반도체 소자의 고해상도를 구현할 수 있는 필수재료로 그 수요가 지속적으로 증가하고 있다.

에스앤에스텍은 이번 무효소송 최종 승소로 현재까지 일본업체가 독점하고 있던 고부가가치 위상시프트 블랭크마스크 시장에 본격적으로 진출할 수 있는 전기를 마련했다.

한편, 에스앤에스텍은 이번 특허무효소송과는 별도로 호야 측에서 제기한 위상시프트 블랭크마스크 및 그 제조방법에 대한 특허침해소송에서도 지난해 9월 최종 승소한 바 있다.

윤종성 기자 jsyoon@asiae.co.kr