삼성전자, 중국 서안시에 반도체 공장 건설

10나노급 낸드라인 건설에 자본금 23억달러 출자 승인

[아시아경제 명진규 기자]중국 지역에 반도체 공장을 짓기로 결정한 삼성전자가 서안시를 반도체 생산라인 건설지역으로 최종확정했다.

삼성전자는 2일 이사회를 열고 중국 서안시 고신기술산업 개발구에 들어설 반도체 신규라인 건설을 위해 자본금 23억불을 출자하기로 결정했다고 밝혔다.

삼성전자는 건물 건설 등 초기 23억불 출자에 이어, 향후 수년 간 단계적으로 총 70억불을 투자해 나갈 계획이다. 이번 중국 투자는 삼성전자의 해외 반도체 생산라인 단일 투자 규모로는 역대 최대 규모에 해당한다.

삼성전자가 중국 서안시를 중국진출 지역으로 최종 선정한 이유는 서안시 주변에 삼성전자의 주요 고객과 글로벌 IT기업의 생산, 연구 거점이 밀집되어 있어, 고객의 요청에 신속하고 효율적인 대응이 가능한데다 우수인재 유치에도 유리하다는 점이 가장 큰 요인으로 작용했다.

또, 서안시는 중국 정부가 야심차게 추진중인 서부 대개발 정책의 전략적 요충지로, 전기, 용수 등 산업 인프라도 잘 갖춰져 있어 반도체 생산라인 건설지역으로는 최적의 장소라는 판단이다.

삼성전자는 중국 측과 생산과 고용 규모 등 세부 협상을 빠른 시일 내에 마무리 짓고, 연내 반도체 생산라인 건설에 착수, 2013년 말부터 10나노급 낸드 플래시를 본격 생산할 예정이다.



명진규 기자 aeon@