테스, 기판 처리 장치 특허권 취득

[아시아경제 지선호 기자] 테스 는 3일 기판 처리 장치 관련 특허권을 취득했다고 공시했다.

테스는 서셉터의 승강 이동을 위한 승강 구조와 공정 가스의 배기를 위한 배기 구조가 통합돼, 반응 챔버의 바닥면 중앙 영역에서 반응 가스의 배기가 가능하게 되어 공정 균일도를 향상시킬 수 있다고 설명했다.

회사측은 장비 제조시 특허기술 적용을 통한 제품경쟁력 강화하겠다고 밝혔다.

지선호 기자 likemore@