삼성전자, 연간 시설투자 전년비 2배 늘려…반도체·디스플레이 집중

[아시아경제 원다라 기자] 삼성전자 가 올해 연간 투자 규모를 전년 대비 2배가량 대폭 늘렸다.

삼성전자는 2017년 연간 시설 투자규모가 약 46.2조원이라고 31일 공시했다. 이는 지난해(25.5조원) 대비 2배가량 대폭 늘어난 수치다. 사업별로는 반도체 29.5조원, 디스플레이 14.1조원 수준이다.

3분기 시설투자는 총 10.4조원이며 반도체에 7.2조원, 디스플레이에 2.7조원이 투자됐다. 3분기 누계로는 32.9조원이 집행됐다.

메모리의 경우 V낸드 수요 증가 대응을 위한 평택 1라인 증설과 D램 공정전환을 위한 투자가 진행되고 있으며 파운드리는 10나노 공정 생산라인 증설에 투자되고 있다. 디스플레이의 경우 플렉서블 OLED 패널 고객 수요에 대응하기 위한 생산라인 설 투자가 진행중이다.

삼성전자 관계자는 "4분기 투자는 상당 부분이 반도체 사업에 투자될 예정이며, 주로 신규부지 조성과 클린룸 공사 등 인프라 구축에 쓰일 전망"이라고 설명했다.

원다라 기자 supermoon@asiae.co.kr