SK하이닉스, '제2회 SK하이닉스 학술대회'

▲30일 열린 제2회 SK하이닉스 학술대회에서 박성욱 CEO(좌측 일곱번째)와 김용탁 부사장(우측 네번째)이 대상을 수상한 권일웅 책임(좌측 다섯번째)을 비롯한 수상자들과 기념 촬영을 하고 있다.

[아시아경제 김은별 기자] SK하이닉스 는 사내 기술 교류를 위해 지난 30일 이천 본사 인력개발원에서 '제2회 SK하이닉스 학술대회'를 개최했다고 1일 밝혔다.

'SK하이닉스 학술대회'는 연구개발·제조 등 기술분야 임직원들간의 활발한 학술교류를 통해 미래 기술의 한계를 극복하고 엔지니어링 역량을 강화하기 위해 지난해부터 시작됐다.

올해의 경우 '한계를 넘어라(Break through the Limit)' 라는 주제로 지난해 소자·공정, 설계·솔루션, 제품·응용기술, 차세대 제품 등 4개 분과에 제조·품질을 추가해 총 5개 분과로 구성한 것이 특징이다. 또한, 논문 접수 기간을 기존 1개월에서 2개월로 늘려 논문의 질과 임직원들의 참여율도 높였다.

이번 학술대회에서는 지난 6월부터 접수를 받아 선정된 200여편의 우수논문이 인력개발원 내의 11개 세미나룸에서 발표됐으며, 1500여명의 임직원이 참석한 가운데 높은 관심 속에서 진행됐다.

특히, 박성욱 CEO를 비롯해 제조/기술부문장 오세용 사장, DRAM개발부문장 김용탁 부사장 등 주요 경영진도 참석해 임직원들을 격려했다. 기조연설은 천 즈치앙(T. C. Chen) IBM 연구소 부사장이 맡았다.

심사를 통해 선정된 대상(1명, 상금 1000만원)과 분과별 우수 논문 수상자 등에게는 총 2000만원 규모의 상금과 해외 주요 학술대회 참관 기회가 부상으로 제공됐다.

대상은 미세공정 진화에 따른 특성확보의 어려움을 극복하기 위해 'D램 신뢰성 향상 방안'을 연구한 미래기술연구원 권일웅 책임이 수상했다. NAND총괄본부 강진성 책임은 원가경쟁력 강화에 대한 활용성을 부각한 '낸드플래시 회로 면적 감소'에 대한 논문을 발표해 금상을 수상했다.

이번 대회 상임위원장을 맡은 DRAM개발부문장 김용탁 부사장은 "이번 학술대회에서는 학술적 가치뿐만 아니라 개발에 접목 가능한 논문들을 다수 발견해 의미가 있었다"며 "향후에도 임직원들 상호간의 기술교류를 더욱 활성화하고, 발전적인 경쟁을 유도해 기술기반의 성장을 촉진할 계획"이라고 밝혔다.

김은별 기자 silverstar@asiae.co.kr