숭실대, 새로운 광학소자 통한 컬러필터 기술 개발

이번 연구를 통해 개발된 극성 선택적 컬러필터 기술 및 응용 예시 (제공=숭실대학교)

[아시아경제 이현주 기자] 숭실대학교는 소속 전자정보공학부 이호진 교수와 서울대 물리천문학부 최현용 교수가 공동저자로 참여한 연구팀의 논문이 나노 분야의 세계적 학술지 '나노 레터스' 8월호에 게재됐다고 4일 밝혔다. 해당 논문 '플라즈모닉 나노그래이팅과 에탈론 구조체 기반의 극성 선택적 컬러필터'는 가시광선 대역에서의 빛의 극성에 따라 나타나는 색과 이미지 정보를 선택할 수 있는 나노 크기의 패턴과 에탈론 구조체가 결합된 컬러필터 기술을 개발했다는 내용을 담았다. 이번 연구에서는 플라즈모닉스 나노패턴과 에탈론 구조체를 결합함으로써 입사되는 빛의 방향에 따라 나타나는 이미지 정보를 변화시킬 수 있는 새로운 광학소자를 개발했다. 플라즈모닉스란 나노 사이즈의 금속 구조체를 이용하여 빛의 회절 한계보다 작은 영역에서 광을 제어함으로써 다양한 스펙트럼의 가시광선의 투과를 조정할 수 있는 기술이며, 에탈론은 다중 반사판 형태의 광학 소자로써, 구조체 내의 굴절률 또는 막의 두께를 조정함으로써 이 구조체를 통과하는 빛의 간섭 패턴을 변조할 수 있는 기술이다. 두 기술을 결합함으로써, 높은 광효율을 확보함과 동시에 빛의 편광방향에 따라 특정 이미지를 선명한 컬러로 나타내거나 또는 완전히 사라지게 함으로써 기존에 보고된 바 없는 높은 편광 분리도를 구현했다.

이현주 기자 ecolhj@asiae.co.kr