현장 점검 나선 이재용 부회장 "다시 한번 힘내 벽 넘자"

수원 삼성종합기술원 방문
신기술 연구개발 현황 살펴

이재용 삼성전자 부회장이 3일 구미사업장에서 스마트폰 생산 공장을 점검하고 있다.

[아시아경제 이동우 기자] 이재용 삼성전자 부회장이 핵심 원천기술 개발 전략을 위한 현장 점검에 나섰다.

삼성전자는 25일 이 부회장이 경기도 수원에 위치한 삼성종합기술원을 찾아 신기술 연구개발 현황을 보고 받고 차세대 미래기술 전략을 점검했다고 밝혔다. 이 부회장이 현장 점검에 나선 것은 지난 19일 충남 아산 삼성디스플레이 사업장을 찾은 지 6일 만이다.

이 부회장은 이날 현장에서 간담회를 갖고 ▲차세대 AI 반도체 및 소프트웨어 알고리즘 ▲양자 컴퓨팅 기술 ▲미래 보안기술 ▲반도체·디스플레이·전지 등의 혁신 소재 등 선행 기술에 대해 논의했다.

이 부회장은 “어렵고 힘들 때일수록 미래를 철저히 준비해야 한다. 국민의 성원에 우리가 보답할 수 있는 길은 혁신”이라며 “한계에 부딪쳤다 생각될 때 다시 한 번 힘을 내 벽을 넘자”고 말했다.

자리에는 김기남 삼성전자 DS부문 부회장, 황성우 삼성종합기술원장 사장, 강호규 삼성전자 반도체연구소장, 곽진오 삼성디스플레이 연구소장 등이 함께했다.

이 부회장은 현장에서 사회적 난제인 미세먼지 문제 해결을 위해 지난해 설립한 미세먼지 연구소의 추진 전략 등도 함께 살펴봤다.

이날 삼성전자는 업계 최초로 D램에 EUV 공정을 적용한 양산 체제를 갖췄다고 밝혔다. 회사는 메모리 업계 최초로 차세대 D램 제품부터 'EUV 공정'을 전면 적용해 반도체 미세공정의 한계를 돌파할 준비를 갖추게 됐다고 평가했다.

그동안 이 부회장은 인공지능·5G·자율주행 분야의 고성능, 저전력 반도체 개발에 필요한 EUV 기술 연구에 높은 관심을 갖고 챙겨왔다.

이 부회장은 지난해 4월 시스템반도체 비전 선포식 당시 EUV 건설 현장을 직접 찾은 바 있다. 또 올 1월과 2월 화성 반도체연구소와 세계 첫 EUV 전용 생산기지인 V1라인을 방문해 개발 현황을 살폈다.

이 부회장의 관심과 임직원들의 노력으로 EUV 공정 기술 기반의 사업성과도 가시화되고 있다.

삼성전자는 시스템반도체 분야에서 지난해 4월 세계 최초로 EUV 공정을 적용한 7나노 반도체 제품 출하를 시작했고 올해 차세대 3나노 파운드리 기술을 선보였다.

삼성전자는 이날 EUV 공정을 적용해 생산한 1세대(1x) 10나노급(1나노:10억분의 1미터) DDR4 D램 모듈 100만개 이상을 공급해 글로벌 고객의 평가를 완료했다고 밝혔다.

이동우 기자 dwlee@asiae.co.kr