특허청, 한·중·일 특허청장 연쇄회담 ‘지재권 협력강화’ 모색

[아시아경제(대전) 정일웅 기자] 한·중·일 특허청장 간 연쇄 회담이 일본에서 열린다. 회담은 각국 특허분야의 상호협력 강화를 모색하는 자리로 마련된다.

특허청은 7일부터 사흘간 일본 오다와라에서 한·일(7일), 한·중(8일), 한·중·일(9일) 간 특허청장 회담을 연속해 개최한다고 6일 밝혔다.

일자별 회담에서 첫날 한·일 양국 특허청장은 공동선행 기술조사를 위한 심사관 교류협력 강화와 특허 데이터의 교환 및 대민보급 확대 등이 논의된다.

또 ‘지리적 표시 및 지역 단체표장 목록의 교환 대상 확대’에 관한 협력각서가 체결될 예정이며 교환된 목록은 양국의 지리적 표시보호를 위한 참고자료로 활용된다.

이튿날 열릴 한·중 회담에선 한국과 중국 간의 특허공동심사(CSP·Collaborative Search Pilot) 추진에 관한 합의가 이뤄질 예정이다. CSP는 양국에 제출된 동일한 특허출원을 양국 특허청이 각자의 선행기술 검색정보로 공유하고 해당 출원에 대해선 다른 출원보다 신속하게 심사하는 제도다.

이 제도가 본격적으로 시행되면 심사결과의 국제적 일관성이 증진되고 기업 입장에선 특허권을 조기에 확보할 수 있는 효과를 누릴 수 있게 된다.

회담 마지막 날 한·중·일 특허청장은 특허, 디자인, 정보화 등 각 분야의 협력성과를 승인하고 내년도 협력 방향에 대한 논의를 진행한다. 또 삼자간 협력의 효율성 제고를 위해 기존의 협력체계를 정비하는 방안에 대해서도 상호 협의하는 시간을 갖는다.

특히 이날 회담에선 ‘지재권의 행정·사법적 보호’를 주제로 한 사용자 심포지엄이 열릴 예정이다. 심포지엄에는 3개국 판사 및 심관관 등이 패널로 참여해 지재권 보호에 관한 최신 동향 등을 소개·발표하는 시간을 갖는다.

최동규 특허청장은 “전 세계 특허출원의 57%, PCT 국제특허출원의 41%가 한·중·일 3국에서 출원된다”며 “특허청은 한·중·일을 중심으로 한 국제공조로 우리 기업이 해외에서 더욱 편리하게 지재권을 획득하고 지재권을 보호받을 수 있도록 하는데 역점적으로 나설 방침”이라고 말했다.



대전=정일웅 기자 jiw3061@asiae.co.kr