삼성전자, 비메모리 반도체 5나노 초미세 공정 개발 성공

시스템반도체 2030년 글로벌 1위 발판 마련

▲삼성전자 화성 EUV 라인 조감도.(제공=삼성전자)

[아시아경제 박소연 기자] 삼성전자가 5나노 초미세 공정 개발에 성공했다. 이재용 삼성전자 부회장이 올해 초 제시한 '2030년 비메모리 글로벌 1위' 달성을 위한 전략적 고지를 선점했다는 평가다.

삼성전자는 5나노 공정 개발에다 7나노와 6나노 파운드리 공정의 본격 양산으로 초미세 공정에서 초격차를 유지한다는 전략이다.

삼성전자는 16일 극자외선(euv) 기술을 기반으로 한 반도체 파운드리 5나노 공정 개발에 성공했다고 밝혔다. 이번 개발 성공으로 삼성전자는 파운드리 사업 기술 경쟁력을 한층 강화하게 됐다.

차세대 '5나노 공정'은 셀 설계 최적화를 통해 기존 7나노 공정 대비 로직 면적을 25% 줄일 수 있다. 20% 향상된 전력 효율 또는 10% 향상된 성능도 제공한다.

특히 7나노 공정에 적용된 설계 자산을 활용할 수 있어 기존 7나노 공정을 사용하는 고객은 5나노 공정의 설계 비용을 줄일 수 있다.

삼성전자는 1장의 웨이퍼에 여러 종류의 반도체 제품을 생산하는 'MPW(Multi Project Wafer) 서비스'를 최신 5나노 공정까지 확대, 고객들이 보다 편리하게 최첨단 반도체를 제작할 수 있도록 지원할 방침이다.

아울러 삼성전자는 이달 안에 기존 개발한 7나노 제품을 출하하고, 연내 양산을 목표로 6나노 제품 설계를 완료하는 등 초미세 공정에서 기술 경쟁력을 강화해 나갈 계획이다.

삼성전자가 첨단 초미세 공정 파운드리 생산의 핵심 기술을 확보함에 따라 국내 시스템 반도체 생태계가 강화되는 동시에 시스템 반도체 역량도 높아지는 효과가 있을 것으로 기대된다. 파운드리 사업은 반도체 장비, 소재, 디자인, 패키징, 테스트 등 다양한 전문 업체들이 함께 성장해야 하므로 전후방 연관 효과가 크다.

배영창 삼성전자 파운드리사업부 전략마케팅팀 부사장은 "삼성전자의 EUV 기반 최첨단 공정은 성능과 설계자산 등에서 다양한 강점을 가지고 있어 5G, 인공지능(AI), 전장 등 신규 응용처를 중심으로 높은 수요가 예상된다"며 "향후에도 첨단 공정 솔루션으로 팹리스 고객들이 삼성의 파운드리 기술을 활용해 보다 쉽고 빠르게 제품을 설계하고, 신제품 출시 시기도 앞당길 수 있도록 하겠다"고 말했다.

박소연 기자 muse@asiae.co.kr