테스, 반도체 장비 관련 특허권 취득

[아시아경제 김민영 기자] 테스 는 플라즈마 발생장치 및 이를 포함하는 박막증착용 반응챔버에 대한 특허권을 취득했다고 14일 공시했다.

회사 측은 "원자층증착(ALD)시 공정의 수율 및 단차피복율(step coverage)을 개선하는 우수한 효과를 나타내며, 기판상 박막 막질의 저하를 회피하거나 최소화할 수 있다"며 "신제품 개발 적용 및 기존 제품 경쟁력 강황에 활용할 계획"이라고 밝혔다.

김민영 기자 argus@asiae.co.kr