디에이테크놀로지, 2차전지 관련 특허 2종 취득

[아시아경제 구은모 기자] 디에이테크놀로지가 이종욱 대표 취임 이후 지속적으로 기술경쟁력을 강화하고 있다.

디에이테크놀로지는 2차전지 관련 국내외 특허 2종을 연이어 취득했다고 17일 밝혔다. 특허명은 ‘2차전지의 셀 스택 적층 장치 및 방법’, ‘전지 부품 분배장치 및 이를 갖는 2차전지 셀 제조 시스템’ 이다.

2차전지의 셀 스택 적층 장치 및 방법에 관한 특허의 경우, 양극판과 음극판을 교대로 적층할 때, 분리막을 직접 양극판과 음극판으로 밀어서 지그재그 형태로 적층한다. 이 과정에서 분막의 양측에 배열되는 양극판과 음극판의 간격, 분리막의 하단을 상축으로 상승시키는 속도를 적절히 제어하여 적층과정에서 발생할 수 있는 스크래치를 방지할 수 있다. 적층 속도 역시 기존 장비보다 향상된 것으로 알려졌다.

전지 부품 분배장치 및 이를 갖는 2차전지 셀 제조 시스템은 이차전지 셀의 전극판과 전지 부품을 지정된 복수의 공정 위치로 분배하며, 연속적으로 공급할 수 있는 장치이다. 공정 진행 속도를 대폭 향상시킬 수 있으며, 복수의 공정 장비를 하나로 통합해 구성할 수 있을 것으로 기대된다.

디에이테크놀로지는 이종욱 대표 선임 이후 지속적으로 신기술 개발 및 특허 취득에 힘을 쏟고 있다. 장 폭 셀 스태킹, 고속 NCM 장비 등을 개발했으며, 고속 레이저 노칭 장비의 경우 지난 10월 국내 글로벌 배터리 업체에 공급을 진행했다.

구은모 기자 gooeunmo@asiae.co.kr