旧款 DUV 光刻机出口也将受限 전망
据报道，美国和荷兰将就对华半导体设备出口管制宣布追加措施。
据主要外媒当地时间29日报道，荷兰政府将于30日发布与本国半导体设备企业ASML生产的深紫外线（DUV）光刻机对华出口审批条件相关的新规。
据称，新规的实施时间很可能定在9月。
荷兰政府自2019年起就禁止ASML向中国出口最尖端的极紫外线（EUV）光刻机。今年3月又预告，将对应用于EUV前一代技术的老旧DUV光刻机实施出口管制。
ASML当时预计，由于荷兰政府的管制，新款DUV光刻机将受到影响。但外媒报道指出，老旧DUV光刻机对华出口似乎也将受到限制。
美国政府继去年10月宣布对华高端半导体及设备出口管制后，正在准备针对6家中国设施的追加限制措施。据称，将制定规定，要求向这些设施出口半导体设备时必须事先获得审批。
消息人士称，新规实施后，即便是含有较以往更低比例美国零部件的其他外国企业产品，也预计需要获得美国出口许可。消息人士表示，DUV光刻机中的低端产品也将受到影响。新规预计将于下月末公布。
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