在日本对韩国实施材料、零部件和设备领域出口管制之际，实现半导体核心材料光刻胶（PR）关键技术国产化的Dongjin Semichem会长李富燮于25日逝世，享年87岁。
逝者出生于首尔，毕业于京畿高中、首尔大学纺织工学科（现化学工学部）及同校研究生院。
他于1962年在大韩写真化学工业社研究室开始工作，之后历任1964年韩国生产性本部技术部长，1967年创办东进化学工业社（现Dongjin Semichem），将毕生精力奉献于化学材料开发。1980年12月，在第二次石油危机期间公司发生倒闭危机，自此至1989年被置于法院管理之下。1983年，他成功开发出用于保护半导体免受外部冲击和污染的封装材料EMC（环氧模塑料）。以此为契机，他开始专注于半导体材料领域，并在得知光刻胶（PR）完全依赖进口后，将通过销售发泡剂赚来的资金全部投入到PR开发之中。
他与母校首尔大学纺织工学科开展产学合作研究，选拔2名奖学生正式投入开发工作，最终于1989年10月成功开发出韩国首款、世界第四款光刻胶（PR）。1990年，他成功将首批产品销售给三美电子，此后又率先在韩国成功开发出用于显示器的光刻胶。
1994年，他成功向三星电子供应用于4兆位动态随机存取存储器（DRAM）的光刻胶，随后又先后成功开发出G线（436纳米）、I线（365纳米）、氟化氪（KrF）光刻胶（248纳米）、氟化氩（ArF）光刻胶（193纳米）等产品。
2014年至2017年，他担任韩国科学技术团体总联合会会长，并先后出任韩国工业化学会会长、韩国工程师俱乐部会长等职务。曾荣获韩国工学技术奖、产业资源部金塔产业勋章、韩国风险创业大典总统表彰等多项奖项。
其遗属包括夫人张明玉女士及两子（Lee Jun-gyu〈Dongjin Semichem副会长〉、Lee Jun-hyuk〈Dongjin Semichem副会长〉）等。灵堂设在新村世福兰斯医院殡仪馆特1号室，出殡时间为3月1日上午9时。咨询电话：02-2227-7500。
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