EUV用金属光刻胶工厂开工仪式
产业通商资源部12日表示，在忠北清州举行了日本JSR公司用于半导体极紫外线（EUV）工艺的核心材料——金属光刻胶（金属氧化物光刻胶，Metal Oxide Resist，MOR）生产工厂的奠基仪式。
当天奠基仪式上，韩方出席人员包括产业通商资源部贸易投资室长Kim Daeja、忠清北道知事Kim Younghwan、清州市长Lee Beomseok，JSR方面则有JSR半导体·显示事业总负责人Yamachika Mikio、JSR Micro Korea代表Iijima Takahiro等出席。
JSR成立于1957年，目前在半导体光刻胶领域的市场占有率位居全球第一。该公司自2003年在忠北梧仓工厂成立、首次进军显示材料领域以来，一直在持续扩大在韩国的投资。
通过此次奠基仪式，JSR将在其既有的韩国显示业务基础上，率先在全球企业中，选择在韩国建立用于半导体极紫外线（EUV）工艺的金属光刻胶生产基地。JSR的金属光刻胶工厂计划落户于忠北清州兴德区玉山面内的梧仓科学产业园区。
光刻胶是为在半导体晶圆表面形成电路图案而涂布的材料。与现有半导体工艺中使用的低规格化学增幅型光刻胶相比，EUV金属光刻胶具有更高分辨率，将被应用于半导体超精细工艺。
JSR计划在2026年前完成生产基础设施建设，并实现金属光刻胶量产。通过这一举措，有望及时响应韩国国内企业的需求，为提升韩国半导体产业竞争力作出贡献。贸易投资室长Kim Daeja表示：“为确保JSR本次投资成功落实并进一步带动追加投资，我们将与忠清北道和清州市一道，提供全力支持。”
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