SK海力士表彰产学合作优秀发明：“将继续开展推动半导体发展的研究”

by Kim HyeongMin

Published 02 Oct.2025 10:28(KST)

1日在利川校区举行颁奖仪式
高丽大学教授 Kim Youngjin 专利获最优秀奖
与半导体工艺废水处理系统相关

SK海力士2日表示，公司于1日在利川园区举行了“第13届产学研究课题优秀发明奖励颁奖典礼”。

SK海力士1日在京畿道利川总部举行第13届产学研究课题优秀发明颁奖仪式。自左起为SK海力士副社长 Chae Heeseok（负责法务和专利）、未来技术研究院院长兼首席技术官 Cha Seonyong、浦项工科大学教授 Kim Wonhwa、高丽大学教授 Kim Youngjin、延世大学教授 Lee Taeyoon、浦项工科大学教授 Choi Donggu、高丽大学研究员 Jo Hansaem（代高丽大学教授 Kim Seongbeom 领奖）、SK海力士副社长 Kim Jaebeom（负责研发战略）、副社长 Kim Yeonsu（负责专利）。SK海力士新闻室提供

当天的颁奖典礼上，包括获奖者在内，SK海力士未来技术研究院院长（首席技术官）Cha Sunyong、副社长（负责研发战略）Kim Jaebeom、副社长（负责法务及专利）Chae Heeseok、副社长（负责专利）Kim Yeonsu等出席。

“产学研究课题优秀发明奖励颁奖典礼”旨在从学界与企业共同积累的研究成果中，遴选出对产业具有巨大波及效应的发明予以鼓励。为提升承担产学课题研究人员的士气、倡导创意专利开发，自2013年起每年举办一次。

今年以2024年一年间申请的27件产学专利为对象，进行了严格评审。综合评估技术性、专利性等要素，最终评选出最优秀奖1件、优秀奖1件、鼓励奖3件，共计5件。

最优秀奖授予了高丽大学教授Kim Youngjin发明的与半导体工艺废水处理系统相关的专利。半导体制造过程中产生的废水中含有高浓度难降解有机物TMAH，该物质毒性强且处理困难，一直被视为半导体行业的代表性环境课题。该专利提出了一种在稳定处理该物质的同时，还能将副产物资源化的方案，在技术独创性与差异性方面表现突出，并有望在环境、社会及公司治理（ESG）层面产生积极效果，因此获得高度评价。

Kim教授表示：“工艺废水处理系统专利发明被认可为对半导体行业有所助益，我感到非常高兴。今后也期待以SK海力士为中心，环保技术实力能够得到进一步发展。”

优秀奖由浦项工科大学教授Kim Wonhwa发明的与基于神经网络的焊点检测装置及方法相关的专利获得。该专利利用神经网络算法自动判别焊接是否存在缺陷，大幅缩短检测时间，并能降低因作业人员熟练程度不同而导致的质量差异，因此获得高度评价。鼓励奖则授予延世大学教授Lee Taeyoon、浦项工科大学教授Choi Donggu、高丽大学教授Kim Seongbeom。