Semes启动第二台“Omega Prime”半导体光刻工艺设备量产

by Kim Pyeonghwa

Published 24 Jun.2024 11:06(KST)

日本TEL独占设备首次在国内成功开发
去年1号机量产后开发后续机型

半导体设备企业SEMES于24日表示，将正式量产其在国内首次开发的用于半导体光刻工艺的涂胶显影一体机“氟化氩浸没式旋涂显影机（设备名：Omega Prime）”第二号机。

Semes成功量产的沉浸式旋转设备（设备名：Omega Prime）。Semes提供

该旋涂显影机在半导体制造工艺中，用于在晶圆上均匀涂布用于形成微细电路（图案）的感光液（光刻胶），并在光刻机中进行曝光后再次进行显影。日本最大半导体设备厂商东京电子（TEL）在相关市场的占有率超过90%。

此前生产氟化氪（KrF）旋涂显影机的SEMES，为了应对光源波长线宽缩短的高性能光刻机，新开发了氟化氩浸没式（ArF-i）设备，并于去年出货了量产第一号机。这意味着其向事实上由日本垄断的市场发出了挑战书。

氟化氩浸没式设备是对高洁净、高生产率、高精度有要求的“三高”设备。SEMES在设备中导入了用于机器人位置调节和烘烤温度设定等的自动化系统，还搭载了视觉监控功能系统和烘烤自动补正等专有技术。

SEMES首席技术官（CTO）Choi Gilhyeon表示：“通过开发作为半导体核心工艺设备的Omega Prime，今后将产生巨大的进口替代效果”，并称“今后将推出以高附加值为中心、具有独创性和差异化的设备，不断成长为技术创新型企业”。

本报道由人工智能(AI)翻译技术生成。