向中国泄露半导体技术的前三星工程师一审获缓刑2年…检方提起上诉
检方不服一审对一名将国内半导体相关尖端产业技术向海外泄露的前半导体工程师作出缓刑与罚金判决，已提起上诉。
首尔中央地方检察厅信息技术犯罪调查部（部长检察官 Lee Seongbeom）3日表示，已对一审判决提起上诉。一审曾以违反《不正当竞争防止法》（将营业秘密泄露至境外等）及违反《产业技术保护法》等罪名，对被拘捕起诉的前三星电子工程师A某（44岁）判处有期徒刑1年6个月，缓刑2年，并处罚金1000万韩元。
检方相关人士表示：“被告不正当获取一旦泄露海外将可能对国家安全保障及国民经济造成巨大损害的半导体超微细工艺技术，并出于私利目的加以利用，然而在公判过程中仅极其有限地承认自身嫌疑，毫无悔意。综合考虑上述情节，认为有必要使其受到更为严厉的惩罚。”该人士还补充称：“将在二审中尽最大努力，使其受到与罪责相称的刑罚。”
据检方介绍，A某在从三星离职并于2018年8月跳槽至中国某半导体企业后，被指控通过电子邮件链接方式发送与最新半导体超微细工艺相关的国家核心技术及营业秘密等33个文件，并在外部打开、拍摄，从而不正当获取相关资料。
就此案，检方去年10月已将A某等跳槽至该中国企业的2名工程师，以及三星工程公司2名研究员一并提起公诉。
调查结果显示，他们以超纯水系统运行手册和设计图纸等核心技术资料为目标。所谓超纯水，是指将水中离子、有机物、微生物等各种杂质去除到10万亿分之一以下、几乎接近纯水的水，用于半导体工艺中所需的各类清洗作业。如果水中含有杂质就会产生不良品，因此稳定供应超纯水对半导体良品率有重大影响。三星电子自2006年以来每年投资300亿韩元以上开发超纯水系统。
调查显示，跳槽至中国企业的A某在发包超纯水系统项目时，利用上述非法窃取的资料，要求参与投标的公司提交符合三星工程系统规格的技术说明资料。
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