ASML：2030年前半导体EUV需求将增长，营收目标最高达89万亿韩元

by Choi Seoyoon

Published 14 Nov.2024 19:02(KST)

荷兰本社举行“2024 投资者日”活动”

全球唯一的极紫外线（EUV）光刻设备制造商ASML在人工智能热潮带动EUV需求激增的背景下，于14日表示：“力争在2030年前将年度销售额提升至约440亿至600亿欧元（约合65万亿至89万亿韩元）。”该公司去年实现销售额276亿欧元（约合41万亿韩元）。

ASML当天在荷兰费尔德霍芬总部召开“2024投资者日”，并表示：“我们的目标毛利率约为56%至60%。”

首席执行官（CEO）Christophe Fouquet称：“ASML具备在今后10年扩展EUV技术并扩大光刻（Lithography·在晶圆上刻画电路的技术）产品组合的能力”，“将利用人工智能（AI）带来的机遇提升盈利能力。”

ASML预计，人工智能和高性能半导体需求的增长将带动半导体产业的生产率与创新。公司预测，到2030年，全球半导体市场规模将增长至1万亿美元（约合1405万亿韩元），并将在明年起至2030年期间实现年均约9%的增长。

克里斯托夫·福克 ASML首席执行官。ASML提供

ASML预计，到2030年之前，使用EUV光刻设备的工艺数量将持续增加，从而带来对该设备需求的激增。公司推算，2025年至2030年期间，客户在先进逻辑和DRAM领域EUV光刻方面的投资规模将以年均两位数速度增长。ASML目前向Samsung Electronics和TSMC等企业独家供应极紫外线（EUV）光刻设备。

EUV设备单价较高，但与传统光刻设备相比，可减少图案化次数（曝光次数），从而降低晶圆生产的成本和时间。以往为了形成复杂图案，需要进行多次（多重）曝光，而随着EUV技术的发展，如今只需一次（单次）曝光就能实现足够精细的图案。

ASML认为，如果通过这种方式进一步提高EUV技术的成本效率，其客户将在先进逻辑或DRAM领域把原本复杂的多重图案化工艺，转为一次曝光即可完成的单重图案化工艺。ASML分析称，今后客户有望进一步将多重图案化层转向单重图案化的EUV 0.33 NA和EUV 0.55 NA工艺。

ASML首席财务官（CFO）Roger Dassen表示：“随着半导体市场增长以及在先进制程节点光刻投资的扩大，对本公司产品和服务的强劲需求将会持续”，“我们计划在2025年至2030年期间将年均销售增长率维持在两位数，并通过增加股息和回购股份，持续向股东进行实质性的现金回馈。”