DifferiAI凭借自研边缘AI技术在国际发明展获奖，“全球技术实力获认可”

边缘人工智能（AI）领先企业 DipherAI 于4日表示，公司在上月28日至31日于印度尼西亚登巴萨举行的“2024 印度尼西亚发明家日（Indonesia Inventors Day, IID）”活动中荣获2项金奖。

IID 是由“印度尼西亚发明协会（INNOPA）”与“国际发明家协会总联盟（IFIA）”支持的国际发明展览会。本次活动共展出了来自全球21个国家的300余项发明专利。

DipherAI 在 IID 上展示了“两项适用于硬件实现的神经网络计算方法及装置”和“芯片间通信仲裁装置”相关的专利技术。上述技术的核心在于实现相对于功耗具备高性能的推理加速装置。在低功耗半导体需求不断增长的背景下，公司方面表示，DipherAI 的 AI 半导体能够在边缘侧进行深度学习推理，并具有高扩展性，有望应用于多种尖端产业。

DipherAI 首席执行官 Lee Sangheon 表示：“通过在 IID 上获得金奖，DipherAI 的创新技术获得了全球认可，我们感到非常自豪”，“在展会上确认到业界对 DipherAI 边缘 AI 技术的高度关注，以及其在各类产业领域的应用可能性。”

他接着补充称：“此次获奖将成为进军全球市场的重要跳板”，“我们将通过与印度尼西亚企业及国防大学的合作，加快拓展东南亚市场的步伐。”

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DipherAI 正持续在全球市场证明其技术竞争力。今年6月，公司在国内率先获得与边缘 AI 半导体相关技术的美国和中国专利，继而在上月又在“美国硅谷国际发明展览会（Silicon Valley International Invention Fair, SVIIF）”上获得了“国际发明家协会总联盟最高发明勋章（IFIA Best Invention Medal）”。

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