ArteK,Lee Jeongwoo个展《完美维度》

一场聚焦于从古代到现代人类足迹中几何图案象征性的艺术家 Lee Jeongwoo 个展即将举行。

Lee Jungwoo_crss010blrf_在反光面料上使用丙烯_145.5×89.4_2024 [图片由 Artekei 提供]

Lee Jungwoo_crss010blrf_在反光面料上使用丙烯_145.5×89.4_2024 [图片由 Artekei 提供]

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ArteK 画廊将于本月29日前举办 Lee Jeongwoo 个展《完美的维度》。继去年在 ArteK 举办三人联展之后,艺术家今年通过此次个展呈现29件全新绘画作品。


自幼起,艺术家便一直为那些被神秘莫测、难以理解的秘密代码所覆盖的古代遗迹所吸引。据称,他对从古代文明到现代的人类足迹中反复出现的相似几何图案产生了浓厚兴趣。


在神秘形象的吸引下,他开始一并探究古代遗迹所遗留下的痕迹以及当代的量子力学理论。其结果,他发现这些几何图案实际上是在表现以螺旋形态流动的时空截面,由此他产生了这样的期待:这或将为解开宇宙的神秘与人生的意义提供答案,并以此为起点,开始构筑属于自己的创作世界。


艺术家通过在反光织物上反复排列几何图像并将其图案化,再以遮蔽与模板技法叠加多重层次,从而完成网格、点与柱状等形象。近来他也运用丝网版画技法,如此制作出的织物带有被揉捏后的褶皱痕迹,并能反射光线,保留着其本身的物理特性。

Lee Jeongwoo_scasvspg001_在反光面料上使用丙烯_100×80.3cm_2024年。[图片由 ArteK 提供]

Lee Jeongwoo_scasvspg001_在反光面料上使用丙烯_100×80.3cm_2024年。[图片由 ArteK 提供]

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此外,他还通过擦除上层部分涂层的方式,使底色显露出来,或结合丝网印刷构筑高密度的层次结构。如此完成的精密几何图像乍看之下仿佛只是在明确的计划与秩序之下诞生,但事实上,艺术家是在享受创作过程本身,并在其中留下偶然发现的痕迹。


由此,Lee Jeongwoo 的创作与在画布上涂抹颜料而完成的一般绘画不同,生成了另一种视觉性;作品所反射的灯光与阳光,会随着观者欣赏作品时的移动与所处位置而不断变化。


艺术家仅就自己所选择并加以实验的对象、材料与物性进行阐述,对于那些会限定或归结作品意义的叙事,则始终保持一种观照的态度。



他所希望抵达的“完美维度”,是能够发现关于宇宙之谜答案的那个维度。尽管这是一个永远无法真正抵达的维度,但观众可以通过作品,完整地与这位为之不懈努力的艺术家一同踏上这段旅程。


本报道由人工智能(AI)翻译技术生成。

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