Arm将SoC IP优化适配GAA工艺
有望缩短产品开发时间并降低成本

三星电子与Arm合作项目持续推进
预告将拓展含2纳米GAA在内的未来合作业务

三星电子代工事业部21日表示,全球半导体设计资产(IP)企业Arm的下一代系统级芯片(SoC)IP将优化适配三星自家的最尖端环绕栅极(GAA)工艺。通过强化双方合作,计划在3纳米(nm,1nm为10亿分之一米)及以下代工(半导体委托生产)领域提升先进工艺竞争力。


三星电子扩大与Arm合作…增强3纳米GAA工艺竞争力 View original image

三星电子将通过与Arm的合作,提高无晶圆厂(半导体设计)企业对最尖端GAA工艺的可及性,并将下一代产品开发所需的时间和成本降至最低。三星电子代工事业部Design Platform开发室副社长 Gye Jongwook 表示:“通过扩大与Arm的合作,我们得以为双方客户在生成式人工智能(AI)时代提供相匹配的创新支持。”


此次协作是在多年将Arm中央处理器(CPU)IP优化至三星代工工艺并实现量产的合作基础上延伸而来。通过双方合作,无晶圆厂客户在开发符合生成式人工智能(AI)时代需求的SoC产品过程中,更容易获取Arm的最新CPU。基于三星电子最先进GAA工艺设计的Arm下一代Cortex-X CPU有望在性能和功耗效率方面展现优势。


三星电子与Arm的合作,重点在于在按时向无晶圆厂企业提供产品的同时,实现卓越的PPA(Power:功耗,Performance:性能,Area:面积)表现。为此,双方从合作初期便采用在设计与制造环节同时进行优化的DTCO(设计—工艺协同优化),最大化发挥Arm最新设计与三星电子GAA工艺在PPA改善上的协同效应。


Arm客户端事业部高级副总裁兼总经理 Chris Bergey 表示:“通过与三星电子长期的合作关系,我们得以多年持续推进创新。”他还称:“通过在三星代工GAA工艺上实现对Cortex-X和Cortex-A处理器的优化,双方将不断创新,以重新定义移动计算的未来,并提供AI时代所需的性能和效率。”



双方以此次协作为契机,在多个领域为扩大合作奠定了基础。今后,计划依次推出面向下一代数据中心及基础设施定制半导体的2nm GAA,以及面向未来生成式AI移动计算市场的AI芯粒解决方案。


本报道由人工智能(AI)翻译技术生成。

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