尹总统访问ASML总部…ASML与三星斥资1万亿建半导体研发中心(更新)
尹在出访期间首次走访当地企业
“ASML的技术创新是全球第四次工业革命的动力”
ASML与三星成立“半导体制造技术研发中心”
对荷兰进行国事访问的总统 Yoon Suk Yeol 与荷兰国王 Willem-Alexander 当地时间12日在费尔德霍芬 ASML 总部出席韩荷先进半导体合作协议签署仪式后合影留念。自左起为 SK 集团会长 Chey Tae-won、尹总统、荷兰国王 Willem-Alexander、三星电子会长 Lee Jae-yong、ASML 首席执行官 Peter Wennink。 [图片来源=韩联社提供]
View original image借尹锡悦总统对荷兰进行国事访问之机,ASML与三星电子于12日(当地时间)签署了在韩国设立“下一代半导体制造技术研发中心”的业务协议。双方将共同投资1万亿韩元,以下一代极紫外(EUV)技术为基础联合开发超精细工艺。SK海力士也与ASML签署了“用于EUV的氢气回收技术开发业务协议”,政府层面则就为未来世代新设学院达成共识。
国事访问第二天,尹总统当天下午访问了全球唯一的半导体尖端设备制造公司ASML。尹总统与威廉-亚历山大国王一同到访现场,并与韩国、荷兰和欧洲主要半导体企业负责人举行座谈会,共同参观了下一代EUV光刻设备的生产现场。尹总统表示:“由ASML引领的技术创新,正成为全球第四次工业革命的强大动力。”
对荷兰进行国事访问的总统 Yoon Suk Yeol 当地时间12日与荷兰国王 Willem-Alexander、三星电子会长 Lee Jaeyong、SK集团会长 Chey Taewon 等一同来到位于费尔德霍芬的 ASML 总部,在 ASML 首席执行官 Peter Wennink 的引导下参观“洁净室”前身着无尘防护服。自左起为三星电子会长 Lee Jaeyong、荷兰国王 Willem-Alexander、尹总统 Yoon Suk Yeol、ASML 首席执行官 Peter Wennink、SK集团会长 Chey Taewon。图片由韩联社提供
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对荷兰进行国事访问的总统 Yoon Suk Yeol 12日(当地时间)在位于费尔德霍芬的 ASML 总部出席韩荷半导体企业家座谈会前,与 ASML 首席执行官 Peter Wennink、国王 Willem-Alexander(右)一同听取企业介绍。 [图片来源=联合报道社供图]
View original image为前往ASML所在的荷兰费尔德霍芬,尹总统仅从首都阿姆斯特丹往返移动就耗时4小时。本次对ASML的访问,也是历次总统海外出访中首次将当地企业访问安排为第一站。ASML是全球唯一生产用于人工智能、智能手机等尖端半导体制造的EUV光刻设备的企业,长期以来与韩国半导体企业保持着紧密合作关系。
尹总统与威廉-亚历山大国王抵达ASML后,在刻有纪念两国元首共同访问文字的晶圆上签名。ASML计划将签名晶圆陈列在总部洁净室内。随后,两国元首与同ASML保持合作关系的韩国、荷兰和欧洲主要半导体企业及机构举行座谈会。座谈会由三星电子、SK海力士、ASML(荷兰,光刻设备)、ASM(荷兰,沉积设备)、蔡司(德国,光学系统)、IMEC(比利时,半导体研究机构)等代表共同参加。
在会上,尹总统表示:“迄今为止,由ASML主导的技术创新已成为全球第四次工业革命的强劲动力”,并对ASML、ASM等荷兰半导体企业在韩国新建生产、研发和人才培养设施等不断扩大投资表示感谢。
座谈会结束后,两国政府和企业等签署了3项半导体领域合作业务协议。首先,在全球半导体人才短缺日益加剧的背景下,两国政府(韩国产业通商资源部与荷兰外交部)签署了关于新设“韩-荷先进半导体学院”的合作业务协议,将利用尖端半导体生产设备为两国研究生提供现场学习机会。先进半导体学院计划在两国各招收学员共100人,并于明年2月在荷兰启动首期培训。
ASML还与三星电子签署业务协议,将共同投资1万亿韩元,在韩国设立以下一代EUV为基础联合开发超精细工艺的“下一代半导体制造技术研发中心”。设备企业ASML与半导体制造企业共同在海外设立研发中心,以开发半导体制造工艺,此次尚属首次。此前,尹总统曾于去年11月和今年7月两次会见ASML董事长Peter Wennink,请其扩大对韩投资。
SK海力士同样与ASML签署了“用于EUV的氢气回收技术开发业务协议”。如果在EUV设备内部实现氢气不经燃烧而回收利用,预计用电量将减少20%,每年可削减成本165亿韩元。
此外,两国元首还共同参观了ASML的洁净室,视察了下一代EUV设备的生产现场。总统与威廉-亚历山大国王此行参观的洁净室,是迄今为止其整体面貌从未对外公开的下一代EUV生产现场。韩国政府和企业对ASML高度关注,正是因为ASML所从事业务的独一无二。ASML是全球唯一生产应用于7纳米(nm,1nm为10亿分之一米)以下超精细工艺的EUV光刻设备的企业。将用于2nm以下工艺的下一代EUV设备“高数值孔径(High NA)”也即将亮相。
在设备供应有限的情况下,希望获得最新光刻设备的半导体企业排起长队,设备到手与否已直接关系到超精细工艺的竞争力。ASML此前通过公司活动宣布,将在2026年前把EUV产能提升至90台,在2028年前把高数值孔径设备的产能提升至20台。半导体业界预计,三星电子、SK海力士、台积电以及美国英特尔等继EUV之后也将获得高数值孔径设备的供应。已有消息称,多家企业已经完成供应合同的签订。总统办公室相关人士表示:“政府将不遗余力地提供支持,确保此次ASML访问中在政府及民间层面签署的合作业务协议能够顺利落实。”
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