因被控盗取设计图纸，企图在中国建立一座“整座复制”三星电子半导体工厂的半导体工厂而被拘捕起诉的前三星电子高管，9日再次否认指控，称“此案是被捏造出来的”。
在水原地方法院刑事第14单独合议庭法官 Lee Jiyeon 审理的、涉及前三星电子常务A某违反《产业技术保护法》等罪名的第二次公判中，A某的辩护人表示：“三星电子因为被告跳槽至海力士后，对海力士的重生与复活作出了巨大贡献，一直对其怀恨在心，所以将他作为打击目标。”
A某一方称：“三星电子为阻止离职人员今后再到中国工作，捏造并夸大了本案”，并主张“被告试图建设半导体工厂的行为完全不违法”。
A某被控于2018年8月至2019年2月期间，非法获取并非法使用三星电子作为营业秘密的半导体工厂BED和工艺布局图、工厂设计图纸等，因而被移送审判。所谓半导体工厂BED，是为使进行半导体制造的空间内不存在杂质、从而打造最佳环境的技术；工艺布局图则是记载为进行半导体生产所需的8大核心工艺的布局、面积等信息的图纸。这些技术属于应用于笔记本电脑和手机的“30纳米及以下级别DRAM”和“NAND闪存”半导体工艺技术，构成国家核心技术。
A某于2015年7月在新加坡设立半导体制造企业，随后从中国成都市和台湾某电子产品生产企业引进大规模投资，并从国内半导体业界延揽了200余名人才。据调查，他指示员工获取并利用三星电子半导体工厂的设计图纸等资料。
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在当天的庭审中，A某的辩护人和检方围绕三星电子西安半导体工厂设计图纸的所有权展开了攻防。辩护人主张：“本案受害公司并非检方在起诉书中所特定的三星电子，而是三星中国半导体有限公司，因此在指控本身上就应认定无罪。”检方反驳称：“本案属于技术外泄案件，而非设计图纸窃盗案件，因此与所有权无关。”
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