专利厅的专利基础研发战略支援项目（以下简称IP-R&D项目）正在产业一线结出硕果。
据专利厅25日消息，去年IP-R&D项目投入435亿韩元预算，向中小·中型企业以及大学·公共研究机构提供了713项定制化专利战略，在提升研发成果和获取核心专利方面发挥了支撑作用.
结果显示，获得支援的企业相比未获支援企业，其优质专利比例高出1.4倍，专利在数量和质量层面均明显更高。
此外，获支援企业在美国、欧洲、日本等海外主要国家申请的专利比例也达到未获支援企业的2.5倍。
尤为突出的是，去年参与IP-R&D项目并获得专利厅支援的株式會社Eugene Tech，在半导体设备国产化方面也取得了成功。
该公司在专利厅的深度专利分析支援下，提出了有关核心部件结构的设计构想。
同时，借助这一分析，在研发方向以及获取专利权过程中的纠纷预防战略方面获得支援，成功开发出不存在专利纠纷隐忧的相关技术。
在参与IP-R&D项目的过程中，上述支援最终促成Eugene Tech在薄膜工艺设备领域获取10件优质专利，并实现原本由国外独家垄断的“原子层沉积装置（可在大面积上形成均匀薄膜的半导体微细工艺核心设备）”的国产化。
专利厅强调，成功实现国产化的这项技术和装置，今后将实际向国内外全球企业供货，发挥企业进军全球市场的桥梁作用。
在上述成果基础上，专利厅今年也将继续与相关部门协同，扩大IP-R&D项目规模，并强化专利基础研发扩散所需基础设施的建设。
专利厅表示，将通过与半导体业界的共享与沟通，增进其对当前推进的半导体产业支援政策的理解，并持续发掘和扩大企业实际所需的专利政策。
另一方面，专利厅长 Lee Insil 当天走访了位于京畿道利川的Eugene Tech，听取企业在知识产权一线面临的困难，并承诺推进相关政策加以解决。
此次企业走访，是在现政府就任一周年之际，作为国政课题的一环，为检查IP-R&D项目的实施成效并探索对半导体领域的有效支援方向而进行的。
Lee Insil厅长表示：“专利厅今后将包括半导体在内，逐步扩大IP-R&D项目，以确保获取国家战略技术并抢占核心专利。”
版权所有 © 阿视亚经济 (www.asiae.co.kr)。 未经许可不得转载。
