举办“面向SK hynix”的评选活动…D-RAM组织等获奖

SK海力士17日表示,公司在利川园区研究开发中心举行了“SK海力士大奖”颁奖仪式,对去年为公司发展作出贡献的优秀业绩组织予以表彰。当天包括SK海力士代表理事(副会长)Park Jungho和SK海力士代表理事(社长)Gwak Nojeong在内的约200名成员出席,为获奖者加油鼓劲。


“SK海力士大奖”是为了激励员工、弘扬SK集团经营哲学VWBE(自发且积极的脑力活动),面向为上一年度业务目标作出贡献的组织进行表彰的年度活动,也是公司内部最具权威的颁奖典礼。获奖领域分为四个类别:▲BIC(Best In Class) Tech ▲Future Path Finding ▲Customer First ▲Social Value。


SK海力士大奖奖杯 / SK海力士提供

SK海力士大奖奖杯 / SK海力士提供

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BIC Tech面向在确保技术竞争力的同时实现超越性技术优势的组织;Future Path Finding对应的是夯实核心基础设施和中长期竞争力基础的组织;Customer First授予最大化客户价值、提升市场价值的组织,Social Value则授予为利益相关方有形与无形价值及收益创造作出贡献的组织。今年共有3个BIC Tech案例以及各1个Future Path Finding、Customer First、Social Value案例入选,总计6个案例。


在BIC Tech领域,DRAM开发、未来技术研究院和NAND开发组织荣获大奖。DRAM开发组织因开发采用HKMG工艺的1a纳米工艺LPDDR5而获奖,未来技术研究院因在DRAM存储单元结构创新及最大化晶圆单位芯片产出(Net Die)竞争力方面的贡献受到认可,NAND开发组织则因完成176层NAND客户认证并提升成本竞争力的业绩而获奖。


在Future Path Finding领域,因在M16和龙仁半导体集群建设支持方面取得成果的对外合作组织获奖。Customer First领域由通过快速推向市场并供应HBM3、从而确立竞争力并成功实现对客户的独家供货的DRAM开发组织摘得奖项。Social Value领域中,P&T(封装与测试)及事业战略组织凭借通过提前建设海外P&T基地,应对全球供应链变化并提升成本竞争力的成绩获得表彰。

在BIC Tech领域获奖的DRAM组织成员正在发表获奖感言。自左起为:Choi Jongchan Product Solution PI TL、Hong Yunseok Mobile Design PL、Shin Wonho Mobile AE PL、Cho Seongkwon Mobile PE1组长、Son Yunik Peri Device组长。 SK海力士提供

在BIC Tech领域获奖的DRAM组织成员正在发表获奖感言。自左起为:Choi Jongchan Product Solution PI TL、Hong Yunseok Mobile Design PL、Shin Wonho Mobile AE PL、Cho Seongkwon Mobile PE1组长、Son Yunik Peri Device组长。 SK海力士提供

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SK海力士从今年起采用由员工直接评选获奖案例的评审方式。公司通过这一方式提高了员工关注度和参与度,也增强了获得同事认可的获奖者的自豪感。对最终获奖组织,公司根据贡献度发放了比去年大幅增加的奖金。



副会长Park表示:“SK海力士技术创新的核心始终是员工”,并称:“大家完全可以为我们的技术对全球信息技术发展作出的巨大贡献而感到自豪。”他接着表示:“让我们以前所未有的挑战和创新,由全体员工共同证明SK海力士的价值,迈向全球一流技术企业。”


本报道由人工智能(AI)翻译技术生成。

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