韩日WTO争端解决程序暂时中止
仍处暂时中止阶段,需彻底解除管制
“以美替日引进日本设备企业具有积极意义”

有分析指出,尽管韩国和日本就半导体主要材料出口管制暂时中止达成协商,但韩国半导体业界眼前能获得的实际利益并不大。这是因为在日本于2019年实施管制后,韩国已经实现了高纯度氟化氢(蚀刻气体)等的国产化。预计韩国在引进日本设备企业方面的谈判力将有所提升。在美国以半导体补贴为由施压后,急于推动供应链多元化的韩国来说,这是利好消息。如果最快在第二季度正式解除管制,目前必须逐一向日本当局申报品目进口目的、用途、最终需求地等信息的个别许可制,有望改为涵盖范围更广的总体许可制。


政府6日表示,在与日本就半导体核心材料出口管制进行协商期间,决定暂时中止在世界贸易组织(WTO)框架下的争端解决程序。两国政府将迅速推进双边协商,力争恢复到日本在2019年7月实施管制措施之前的状态。


此前,日本政府于2019年7月将对用于半导体和有机发光二极管(OLED)制造的三种关键材料——光刻胶(PR)、高纯度氟化氢(蚀刻气体)、氟聚酰亚胺(FPI)——出口韩国的制度,由原先的总体许可制改为个别许可制,从而强化了管制。同年8月,日本又将韩国剔除出其“白色国家”名单。对此,韩国政府以日本的出口管制措施属于世界贸易组织协定所禁止的行为为由,向世界贸易组织提起了申诉。根据韩国贸易协会当时的统计,在出口管制实施时,韩国进口的日本产氟化氢占整体的44%,光刻胶则高达92%。


大田纳米综合技术院12英寸半导体测试平台洁净室内 研究人员正在开展半导体材料和零部件开发研究。大田 强镇亨 记者 aymsdream@ 提供

大田纳米综合技术院12英寸半导体测试平台洁净室内 研究人员正在开展半导体材料和零部件开发研究。大田 强镇亨 记者 aymsdream@ 提供

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业界通过材料、零部件、设备国产化和多元化供应商等方式,降低了对日本产品的依赖度。SK海力士成功实现了蚀刻气体国产化。用于极紫外光(EUV)工艺的光刻胶方面,也成功吸引美国企业在韩建设工厂。EUV是应用于7纳米(nm·十亿分之一米)及以下超精细工艺的核心设备。100大材料·零部件·设备核心战略技术相关进口额中,日本所占比重已从2018年的32.6%降至2022年的21.9%,下降了10.7个百分点。半导体领域进口额中日本占比也从2018年的34.4%降至2022年的24.9%,下降了9.5个百分点。


半导体业界认为,此次协商不会立即带来巨大变化,但将有利于供应链稳定。韩国半导体产业协会常务An Gihyeon表示,如果不是“暂时中止”,而是正式放宽出口管制,“半导体工厂运营的不确定性将会消除”。一位业界相关人士表示:“当初出口管制实施时,企业几乎到了要关厂的程度,但通过持续推动供应链多元化,最终解决了问题”,“此次措施将使企业具备更大空间,更加稳定地获得日本产品的供应。”


政府内外普遍认为,最快有望在第二季度正式解除管制。届时,日本可能会像2019年管制之前那样,将品目进口个别许可制重新改为总体许可制。业界将此视为利好。一位业界相关人士表示:“如果日本解除出口管制,出口相关文件的制作等流程有望得到简化。”



也有分析认为,从长期来看,韩国有望提高与日本设备企业的谈判力,从而增强应对美国补贴政策等风险的能力。产业研究院专业研究委员Kim Yangpaeng表示,韩国“必须守住存储半导体主导权,因此亟须扩大吸引材料、设备企业在韩投资或强化与其关系”,并称在监管放宽后,“可以更顺畅地推进与在地理上比美国更接近的日本企业的合作”。


本报道由人工智能(AI)翻译技术生成。

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