升迁受挫怀恨在心…向中国泄露半导体核心技术被当场抓获
[亚洲经济（大田）记者 Jung Ilwoong] 将国家半导体核心技术非法转移到海外的国内大型企业和中坚企业的前、现职员工6人被当场查获。调查结果显示，此案由一名在高管晋升中落选的员工主导实施。因核心技术外泄造成的损失规模估计至少在1000亿韩元以上。
专利厅技术设计特别司法警察（下称技术警察）和大田地方检察厅26日表示，因涉嫌向中国泄露与半导体晶圆抛光（CMP）相关技术，已逮捕并拘押半导体企业A、B、C公司的前员工3人，同时以不拘留状态将A、B公司前、现职员工3人移送检方。
据技术警察和大田地检介绍，主犯D某（55岁、已拘押）因对自己在高管晋升中落选心怀不满，被查明主导了将A公司机密资料泄露给中国企业的全过程。
首先，D某在A公司任职期间的2019年6月，与中国企业约定共同开展半导体晶圆抛光剂（CMP抛光液）制造业务，之后通过即时通讯软件等方式，同时管理在中国境内建立抛光剂生产设备及相关业务。此外，他以挖角方式先后将B、C公司研究员E某（52岁、已拘押）、F某（42岁、已拘押）、G某（35岁、未拘押）转投中国企业，随后于2020年5月左右，自己也以总经理级别身份跳槽至该中国企业。
技术外泄的方式为：D某等人在跳槽至中国企业之前，在原先供职的公司内部网络上查阅半导体晶圆抛光工艺图等公司机密资料，用手机拍照后再传送给中方。
据悉，泄露的资料中包含A、B公司的半导体晶圆抛光剂及抛光垫相关尖端技术（营业秘密），以及C公司的半导体晶圆抛光工艺相关国家核心技术（营业秘密）。
D某等人泄露技术所造成的预计经济损失规模在1000亿韩元以上。就B公司而言，将被泄露技术的研发费用（420亿韩元）与该领域国内年市场规模（6500亿韩元）中受害企业的市场占有率（10%）相加分析，仅B公司一家的损失规模就达约1070亿韩元。
技术警察和大田地检强调，在D某等人泄露的资料尚未在中国当地被正式利用之前，便将该团伙抓获，从而阻止了进一步损失的发生。
技术警察于去年3月接到国家情报院产业机密保护中心关于两名跳槽至中国企业的B公司研究员（F、G某）的情报后，启动了技术外泄调查。随后自4月起，陆续抓获短期从中国回国的团伙成员，获取相关证据，并通过数字取证证据分析，追加锁定2名共犯。最终主导或参与技术外泄的人数增至6人。
大田地检以违反《产业技术保护法》及《不正当竞争防止法》（对外泄露营业秘密等）嫌疑，起诉了由技术警察移送的6名团伙成员全员。
专利厅产业财产保护协作局局长 Kim Sihyung 表示：“在技术霸权竞争时代，‘技术实力’就是国力。专利厅将通过强化技术警察的作用，在守护国家核心技术方面走在前列，并集中机构力量，从源头上切断技术犯罪。”
另一方面，通过D某等人导致技术外泄受害的A、B、C公司均为科斯皮或科斯达克上市公司，三家公司合计市值高达66万亿韩元。
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