检方起诉向境外泄露三星电子子公司核心技术的5人
超临界半导体清洗设备流向中国
水原地检署结束国家核心技术泄露案调查
[亚洲经济 记者 Choi Seokjin 法曹专业记者] 三星电子子公司Semes世界首创开发的“超临界半导体清洗设备”相关技术被泄露至中国，涉案团伙已被提起公诉。
16日，水原地检防卫事业·产业技术犯罪刑事部（部长检察官 Park Jinsung）表示，经对半导体清洗设备制造企业Semes的半导体清洗设备技术被泄露到境外一案进行调查，查明Semes前员工通过中国朝鲜族技术泄露中间人，将Semes世界首创开发并成功量产、独家供应给国内半导体企业的超临界半导体清洗设备相关国家核心技术泄露到境外，已对Semes前研究员等4人提起拘捕起诉，对1人不拘捕起诉。
超临界半导体清洗设备是在用药液等制造20纳米以下存储半导体集成电路时，对所用晶圆进行清洗后，在晶圆干燥阶段利用处于超临界状态（超过临界点的高温·高压物质状态）的二氧化碳对晶圆进行干燥的设备，由Semes世界首创开发并成功实现商业化。该技术可将基板损伤降至最低，从而降低超微细半导体的不良率，产业通商资源部也将其指定为“国家核心技术”。目前除Semes外，仅有日本半导体设备公司东京电子（TEL）开发并生产超临界清洗设备。
2021年实现约3.128万亿韩元销售额的Semes，是韩国第一大半导体清洗设备制造企业，也是全球三大半导体清洗设备制造企业之一。
检方以违反《不正当竞争防止法》（对外泄露营业秘密·泄露营业秘密）、违反《产业技术保护法》以及违反《特定经济犯罪加重处罚法》（挪用）等罪名，对Semes前员工、主犯A某（47岁）提起拘捕起诉。另据检方介绍，以违反《不正当竞争防止法》（泄露营业秘密）及违反《产业技术保护法》罪名，对Semes前研究员B某提起拘捕起诉；对中国籍技术泄露中间人C某，以与A某相同罪名提起拘捕起诉。参与Semes技术泄露的合作公司代表D某和合作公司员工E某，也因违反《产业技术保护法》及违反《不正当竞争防止法》被分别拘捕起诉和不拘捕起诉。
2016年从Semes离职的A某于2019年设立了F公司。
据检方称，A某等人被控于2021年6月前后，从Semes合作公司代表D某处非法获取了世界首创开发并成功量产的超临界半导体清洗设备核心图纸，并通过技术泄露中间人C某将其泄露至中国。
此外，他们还被控于2021年3月至4月间，在离职Semes时携出资料，利用这些资料，将三星电子的存储及代工半导体制造工艺中使用Semes清洗设备的各工艺技术信息（药液配比及设备规格等）和机器人设定值等进行整理后，泄露给F公司各团队负责人。检方确认，B某以妻子名义进入F公司就职后，将Semes相关信息全面汇总整理，并分发给F公司各团队负责人。
他们还被控于2021年5月至7月间，不正当使用Semes世界第二个成功开发的单片式磷酸清洗设备技术信息，制作PPT说明资料，并通过公司内部电子邮件泄露给F公司各团队负责人。磷酸清洗设备是使用磷酸药液对半导体晶圆逐片进行清洗的设备，用于去除晶圆表面残留的二氧化硅等物质。像这样对晶圆一片片进行清洗的单片式磷酸清洗设备，除日本Shibaura公司外，全球仅有Semes成功开发。
除此之外，A某还被控自2019年7月至去年10月期间，利用以本人名义设立的空壳公司进行夹带交易，挪用16亿韩元，并通过开具虚假税务发票挪用11亿韩元，共计挪用F公司资金27亿韩元。中间人C某也被指控参与了其中通过开具虚假税务发票进行的11亿韩元挪用行为。
A某曾于去年5月因泄露Semes开发的湿式半导体清洗设备技术被拘捕起诉一次。他因同年11月羁押期限届满等原因获准保释，此后以不拘捕状态接受审判，但随着检方查明其追加技术泄露犯罪，再次被收押。
检方在去年5月至9月期间共实施3次追缴保全执行，通过对包括6台半导体清洗设备本体在内、价值约234亿韩元的动产，以及价值约301亿韩元的存款债权和不动产进行查封保全等措施，共对约535亿韩元财产采取了保全措施。
水原地检相关人士表示：“被告人自2019年12月至去年7月3年间，共出口20台清洗设备等，获取约1193亿韩元的巨额利益”，“受害公司自2009年至2021年为止，包括人力成本在内，共投入约350亿韩元用于超临界技术开发研究费用”。
其继续称：“至少已造成与该金额（350亿韩元）相当以上的直接损失，进一步来看，由于Semes技术竞争力下降，即使主要客户订单仅减少10%，每年也可能产生400亿韩元以上的损失，形势令人担忧。”
部长检察官 Park Jinsung 表示：“作为重点负责保护尖端产业的检察机关，水原地检今后也将严厉打击破坏良好技术开发风气、损害公平市场竞争秩序的产业技术及营业秘密侵害行为，并为防止再次发生，彻底追踪并追缴犯罪所得。”
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