受审中的三星电子前高管涉嫌再次泄露半导体工艺技术

围绕因涉嫌窃取半导体工厂设计图纸、企图在中国建立“克隆工厂”而受审的三星电子前任高管一案，警方又掌握到其额外泄露核心工艺技术和人力的迹象，已展开调查。

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25日，首尔警察厅安保搜查科以涉嫌违反《产业技术保护法》等罪名，立案调查前三星电子常务A某、三星电子前首席研究员以及半导体相关专业教授等十余人。

A某被指自2021年起两年间，为在中国成都建设半导体工厂，向境外泄露国内半导体工艺及人力资源。据悉，A某窃取的工艺中包含了半导体生产所需的温度、压力等三星电子核心技术内容。此外，他还成立了一家猎头公司，将包括半导体工程师在内的各工艺环节数百名专家输送至中国工厂。警方自上月起对相关人员的住处和办公室实施了搜查扣押，获取了办案所需资料，并正在查明是否存在与人力一同额外泄露的技术。

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曾在三星电子半导体领域担任常务的A某，被控在2018年8月至2019年2月期间，伙同6名同案被告，非法获取并泄露三星电子半导体工厂设计图纸等资料。A某在审判中否认了相关指控。

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