全球首款HBM3E问世:“One Team文化彰显公司底蕴”

SK海力士表现出有信心称霸人工智能(AI)用HBM(高带宽存储器)半导体市场。


SK海力士于19日在自家新闻室发布了HBM3E开发团队的采访。HBM3E是第5代HBM产品,由SK海力士于上月率先在全球开发成功。其容量、数据处理速度、散热性能等较前一代产品HBM3都有所提升。


容量较HBM3增加了1.4倍。随着今后推出12层堆叠产品,容量有望进一步扩大。因为目前即便是8层堆叠,也已经实现了相当于HBM3 12层堆叠水准的容量。速度提升了1.3倍,单引脚最高处理速度达9.2Gbps,整颗芯片每秒最高超过1.15TB(太字节)。这是HBM产品中首次突破每秒TB级别的“墙”。相当于每秒可处理超过230部全高清(FHD)级电影(每部5GB)的数据。散热性能较前一代提升了10%。公司强化了散热材料及相关封装技术。


HBM3E可在HBM3用系统和设计上直接沿用,这一点也极具吸引力。按照国际半导体标准化组织(JEDEC)标准,其封装外观等都与HBM3完全一致。DRAM产品企划TL Hwang Hyun表示:“我们根据客户需求,从速度、容量、发热控制等方面着手,率先在全球成功开发出改进型HBM3E”,“由于积极反映了客户公司的反馈,市场反应也相当积极。”


SK海力士第5代HBM(高带宽存储器)半导体“HBM3E”开发主力成员。  <br>从左起依次为:Lee Jaeseung HBM设计TL、Hong Yangsuk HBM PE TL、Hwang Hyun DRAM产品企划TL、Ha Gyeongmu HBM封装产品TL、Park Onjeon DRAM开发TL。SK海力士提供

SK海力士第5代HBM(高带宽存储器)半导体“HBM3E”开发主力成员。
从左起依次为:Lee Jaeseung HBM设计TL、Hong Yangsuk HBM PE TL、Hwang Hyun DRAM产品企划TL、Ha Gyeongmu HBM封装产品TL、Park Onjeon DRAM开发TL。SK海力士提供

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开发团队表示,凭借SK海力士的“第一名DNA”,有信心称霸AI用存储器市场。他们强调,在开发出12层堆叠HBM3 24GB(千兆字节)封装后,仅用3个月就完成了HBM3E的开发。从HBM最初问世到HBM3E,SK海力士持续扮演“先行者”角色,巩固了技术领导地位。


下一项课题是能否稳定量产HBM3E。在性能方面,也必须持续推出比“每秒TB级”速度更高的高品质产品,才能赢得客户公司的“示爱”。HBM设计TL Lee Jaeseung表示:“有时业界认为HBM当然是SK海力士第一,这种视角会带来压力,但归根结底,我们有信心一定能做到。”



HBM PE TL Hong Yangsuk表示:“由于前瞻性产品开发工作中难题众多,成员之间只能变得更加紧密”,“‘One Team(一个团队)’文化是公司巩固HBM技术领导力的底气所在。”


本报道由人工智能(AI)翻译技术生成。

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