实现异构集成3D封装的关键技术
通过铜连接芯片表面 提升性能与品质
前工序技术至关重要…下一代HBM不可或缺

编者按被称为现代产业“米”的半导体。几乎每天都听到这个词,但真要开口解释时却往往无从说起。复杂晦涩的半导体概念和整个产业脉络,Peace&Chips会用最易懂的方式“喂”给您,您只需要“端起勺子”即可。
[Peace & Chips]引领下一代HBM的“混合键合” View original image

最近阅读半导体相关新闻时,不难看到“封装”这个词。由于半导体行业即便砸下巨额投资,也在微细工艺的极限面前遇到性能提升的瓶颈,因此开始把目光投向封装技术。


业内所说的封装,是指把多个半导体芯片组合在一起,以最大化性能的概念。芯片排列时,将逻辑芯片水平排布、存储芯片垂直堆叠并进行组合,由此从将芯片水平+垂直结合的2.5维(D)封装,演进到彻底垂直堆叠的3D结合封装。尤其是通过3D封装让不同种类的芯片像一颗半导体那样协同工作的“异构集成”备受关注。


在这一过程中所需的技术就是“混合键合(Hybrid Bonding)”。如果要把芯片一层层堆叠起来,原本需要在中间布置大量球状导电凸点(Bump)以实现导电。而所谓混合键合,就是去掉这些凸点,直接把芯片彼此贴合的技术。利用去掉凸点后腾出的空间,可以提升性能和品质,同时还能缩小封装成品的尺寸。


芯片封装时使用的凸点示意图。混合键合技术的核心在于去除这些凸点。/ 三星半导体新闻室内容截图提供

芯片封装时使用的凸点示意图。混合键合技术的核心在于去除这些凸点。/ 三星半导体新闻室内容截图提供

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芯片之间的贴合原理是这样的:芯片表面由铜(Cu)和氧化层(SiO2)构成,通过热处理让铜与铜、氧化层与氧化层彼此键合。由于这是把两种不同材料进行键合(Bonding)的方法,因此得名“混合”。乍一看似乎很简单,但要把芯片表面做得足够平坦并不容易,热处理工艺本身的技术门槛也相当高。


值得注意的一点是,实现混合键合要用到前道工艺技术。前道工艺是指在硅晶圆(Wafer)上绘制电路,完成半导体芯片基底(Die)的一系列流程。之后,为了把芯片制成最终成品而进行的收尾流程则称为后道工艺。


通常人们认为封装属于后道工艺,但在混合键合的情况下,由于是在半导体晶圆上直接把不同的芯片基底(Die)进行键合,因此前道工艺技术显得尤为重要。这也是在前道工艺设备市场占据主导地位的美国应用材料公司(Applied Materials)对封装业务兴趣浓厚的原因。目前,该公司正致力于开发用于混合键合的相关设备。


利用氧化物高度降低技术(a)和铜凹陷控制技术(b)进行划分的混合键合工艺示意图。 / 图片出处为“Cu-SiO2 混合键合”论文截图

利用氧化物高度降低技术(a)和铜凹陷控制技术(b)进行划分的混合键合工艺示意图。 / 图片出处为“Cu-SiO2 混合键合”论文截图

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混合键合与作为行业核心关键词崛起的高带宽存储器(HBM)也有着密切关联。HBM是将多颗动态随机存取存储器(DRAM)堆叠而成的高性能、大容量存储器。随着被广泛用于人工智能(AI)领域,其需求正急剧增长。


业内预计,未来在生产下一代HBM时,混合键合的应用程度将大幅提高。因为HBM性能越高,堆叠高度也会不断增加,业界希望借助混合键合来降低产品厚度。应用材料公司正与所有推出HBM的制造商展开合作,以扩大混合键合设备的导入规模。在HBM市场上,三星电子和SK海力士目前合计占有超过90%的市场份额。


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