Dongui University-高丽大学联合研究团队开发用于量子点红外成像传感器的光电二极管阵列

Published 11 Aug.2025 16:29(KST)

用于实现高集成度红外图像传感器阵列的新型沉积技术

东义大学 Kim Seonghun 教授和高丽大学 Oh Seungju 教授研究团队开发出了可实现红外图像传感器的量子点光电二极管阵列技术。

从左起为学生 Choi Younggyun（高丽大学博士课程）、学生 Lee Youngho（东义大学硕士课程）、教授 Kim Sunghoon（东义大学）、教授 Oh Seungjoo（高丽大学）。东义大学提供

该技术利用气溶胶诱导沉积（Aerosol-Assisted Deposition）技术，在无需经过复杂光刻工艺的情况下，也能对量子点薄膜进行精密图案化，从而为加速下一代基于量子点的红外图像传感器商业化提出了新的方向。

本次研究由高丽大学博士课程研究生 Choi Younggyun 和东义大学硕士课程研究生 Lee Youngho 担任共同第一作者，东义大学 Kim Seonghun 教授与高丽大学 Oh Seungju 教授担任共同通讯作者，以“High-resolution infrared quantum dot photodiode Array via aerosol-assisted deposition”为题，发表于国际知名学术期刊《化学工程期刊（Chemical Engineering Journal）》，并于2025年7月在线刊出。

该技术通过将气溶胶化的胶体量子点直接沉积到基板上的方式，在保持高光响应度的同时，实现了268 ppi 水平的高分辨率光电二极管阵列，这是其一大特点。

以往的光刻工艺中，量子点表面热劣化问题频繁出现，而该技术从根本上消除了这一问题，为同时确保器件稳定性和性能奠定了技术基础。

这一成果证明了在省略复杂光刻工艺的前提下，仍能实现像素化图案的单次沉积工艺技术的可行性。