为防止技术外泄，学界、法律界和产业界专家将集思广益，共同研讨对策。
专利厅7日在专利厅首尔办事处表示，《不正当竞争防止及营业秘密保护相关法律》（以下简称《不正当竞争防止法》）制度改善委员会正式成立并全面启动活动。
该委员会由营业秘密领域的权威学者、具有丰富营业秘密案件实务经验的律师，以及在大企业和中小企业中实际负责营业秘密保护工作的产业界专家等共12人组成，将开展防止包括尖端技术在内的营业秘密外泄的相关工作。
《不正当竞争防止法》是一部为防止假冒商品流通和窃取他人创意等不正当竞争行为，并保护营业秘密而制定的法律。
专利厅表示，随着技术霸权竞争加剧，营业秘密保护的重要性日益提升，已根据一线实际情况持续改进《不正当竞争防止法》，包括将营业秘密侵害的惩罚性赔偿上限从3倍提高至5倍，并将法人罚金上限定为行为人所受罚金的最高3倍，以便有效应对有组织的营业秘密侵害行为。
但有意见持续指出，即便加重处罚，如果无法在审判过程中充分说明遭侵害营业秘密的价值、重要性和损失规模，案件也难以真正落实到严厉惩处，因此有必要完善相关制度，以在审判阶段进行补充。
在营业秘密侵害刑事审判中，引入允许受害方律师向法官直接说明营业秘密内容的律师陈述权，便是典型例子。
与此同时，随着跨国企业和人才交流扩大，营业秘密被泄露至境外的风险不断加大，这一状况也正成为社会问题。
尤其是引诱企业核心人才、居间促成营业秘密侵害的行为，以及外商直接投资企业导致国内企业营业秘密外泄的案件，被认为是大幅提高国内尖端技术向境外流出的风险，因此进一步凸显出为防止此类行为而进行制度整备的必要性。
委员会正是为汇集各界专家智慧，就一线提出的制度改善需求展开讨论而成立的。
专利厅计划在年末前梳理委员会讨论的主要争点，并从明年起有选择地推进立法程序。
专利厅产业财产保护协力局长Jeong Insik表示：“考虑到世界各国正在强化对本国尖端技术的保护并重组供应链，营业秘密保护直接关系到企业和国家的竞争力。”他还表示：“专利厅将汇集各界关于不正当竞争行为和营业秘密的专家意见，制定出既符合时机又具有系统性的制度改善方案，并切实加以落实。”
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