“单价3900亿”……连三星都排队抢购的ASML最新光刻机首次亮相
ASML向英特尔交付最新光刻机设备
设备争夺战激烈…会长 Lee Jaeyong 也到访
在半导体行业中被视为龙头企业之一的荷兰ASML，已向英特尔供应了用于最尖端半导体量产的首台高数值孔径（High NA）极紫外光（EUV）光刻设备。三星电子和台湾的台积电（TSMC）等全球主要半导体企业也在迅速行动，争取获得ASML的设备供应。
彭博通讯社等海外媒体于22日（当地时间）报道称：“ASML已发运首台作为最新半导体制造设备核心部件的High NA EUV光刻系统，并将其运往位于美国俄勒冈州的英特尔D1X工厂。”
ASML于21日通过其官方社交媒体表示：“很高兴也非常自豪能向英特尔出货首台High NA EUV系统。”
High NA EUV是EUV光刻设备领域全球领先制造商ASML的最新产品。单价预计接近3亿美元（约3900亿韩元）。目前市面上ASML最高端设备的价格约为1.8亿美元（约2343亿韩元）。
High NA EUV的特点是将镜头数值孔径（聚光能力单位）提高到0.55（现有EUV设备为0.33）。由于集光能力增强，相比既有设备可以绘制出更清晰、更细的电路。全球主要半导体企业计划自2025年起，在线宽（电路宽度）2纳米及以下工艺中实现芯片量产，而在此类超精细工艺中，波长更短的EUV光刻设备是必不可少的。
英特尔首席执行官（CEO）Pat Gelsinger此前曾表示，自家公司将最先引进这一尖端设备，表达了要在半导体制造领域夺回领先地位的意志。
尹锡悦总统与荷兰国王威廉-亚历山大（右侧第三位）本月12日在位于费尔德霍芬的ASML总部出席两国先进半导体合作协议签署仪式时鼓掌致意。三星电子会长 Lee Jae-yong、SK集团会长 Chey Tae-won、ASML首席执行官 Peter Wennink 等一同出席。 图片由韩联社提供
View original image据悉，High NA EUV的年产量在10台左右。因此，三星电子、SK海力士、台积电（TSMC）等为争夺设备供应展开了激烈竞争。
三星电子会长Lee Jae-yong、SK集团会长Chey Tae-won、总统Yoon Suk Yeol等人在本月中旬访问ASML总部，也是为了考察设备并加强合作关系。三星电子的方针是通过与ASML的联合研发项目，将High NA EUV的利用度最大化。
三星电子相关人士表示：“三星已获得High NA EUV的技术优先权，从长期来看，也由此获得了能够充分运用High NA EUV的契机。”
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