SK海力士31日表示，在利川总部举行了第11届“产学研究课题优秀发明表彰颁奖典礼”。自2013年起，公司每年开展该表彰活动，以鼓舞研究人员士气并鼓励优秀专利开发。
SK海力士31日在利川总部举行第11届产学研究课题优秀发明表彰颁奖仪式。自左起依次为SK海力士副社长 Kim Yunuk（负责可持续经营）、DGIST教授 Kim Yesung、浦项工科大学教授 Baek Nokhyun、汉阳大学教授 Moon Seungjae、延世大学教授 Jung Seonguk、浦项工科大学教授 Park Eunhyuk，以及SK海力士副社长 Cha Sunyong（负责未来技术研究院）。
View original image今年最优秀奖由开发出“离子注入工艺最优化技术”的 Moon Seungjae 教授（汉阳大学）获得。所谓离子注入工艺，是指向晶圆中注入特定杂质以控制电流流动的工艺。SK海力士表示，该技术具有较高的实际产品应用可能性，这是评选的主要理由。优秀奖授予了开发“将半导体器件（晶体管）最优化条件进行量化的人工智能技术”的 Baek Nokhyeon 教授（浦项工科大学）；鼓励奖则颁发给 Jung Seonguk 教授（延世大学）、Park Eunhyeok 教授（浦项工科大学）、Kim Yesung 教授（大邱庆北科学技术院）。
获得最优秀奖的 Moon 教授表示：“SK海力士对研究者的支持和表彰给予了我们巨大的力量。我非常认同为开发尖端技术而由产业界与学界携手合作的宗旨，并对公司为我们搭建这样的交流平台表示感谢。”
当天活动由5位获奖者，以及SK海力士负责未来技术研究院的副社长 Cha Seonyong、负责可持续经营的副社长 Kim Yunuk、直属负责专利的副社长 Ha Yongsu、负责研究开发战略企划的组长 Kim Junsu 等人出席。Cha 副社长表示：“为了通过半导体技术创造更美好的未来，产学研究必须持续推进。今后将与此刻仍在为产业发展不断努力的众多研究人员一道，持续开发优秀专利。”
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