显示专利审查周期缩短“逾1年”
显示器专利审查周期有望缩短1年以上。
专利厅31日表示，自下月1日起一年内，将把在国内进行研发或生产的显示器领域专利申请指定为优先审查对象。
通过这一举措，显示器领域专利申请的审查周期预计将缩短至平均约3.9个月。
考虑到被指定为优先审查对象之前，显示器领域专利申请的审查周期为15.9个月，相当于审查时间缩短了12个月以上。
但优先审查仅限于与显示器材料、零部件、设备以及制造或设计技术直接相关的申请。例如，包含显示器装置的车辆等，将显示器相关技术应用于其他领域的申请，不属于优先审查范围。
此外，仅有在国内生产或准备生产显示器相关产品及装置等的企业所提交的申请，或与显示器技术相关的国家研发项目成果相关的申请，符合条件时，方可进行优先审查。
将显示器领域专利申请指定为优先审查对象，是以去年11月修订的特别法实施令为依据实施的。
考虑到国际上显示器领域专利纠纷日益加剧，修订特别法实施令的宗旨在于支持国内企业快速获取（实现权利化）专利。
以特别法实施令为依据被指定为优先审查对象的领域，继去年的半导体之后，显示器是第二个。
自去年11月开始可以进行优先审查以来，半导体领域专利申请的审查周期平均为1.9个月。
鉴于通常专利审查周期约为12.7个月，这一周期快了10.8个月，比专利厅原本预期的2.5个月又缩短了0.6个月。
为延续这一效果，专利厅决定将原定于本月31日结束的半导体领域专利申请优先审查对象指定期限再延长1年。
同时，删除了作为优先审查申请条件而设定的半导体相关专利分类（合作专利分类）的授予要求，以消除一线实务中的不便。由此，只要是与半导体领域的材料、零部件、设备以及制造或设计技术直接相关的申请，也都可以获得优先审查。
专利厅专利审查企划局长Kim Jisu表示：“半导体和显示器等尖端产业既是我国的核心生计产业，也是国家安全资产。专利厅将本着‘尖端产业竞争力就是国家竞争力’的认识，积极推进审查支持工作，以强化尖端产业竞争力并保护相关技术。”
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