泄露至中国的半导体技术：“建设制造设施必不可少”

国内半导体工艺领域被公认为权威人物的崔某，因被指窃取技术并企图在中国建设“克隆工厂”而被检方拘捕起诉，此事令业界震惊。相关技术被评价为建设半导体制造设施必不可少的核心技术。

曾任三星电子常务及海力士半导体副社长的崔某，被指窃取了三星电子的营业秘密——半导体工厂基础工程数据（BED，Basic Engineering Data）、工艺布局图及设计图纸等，企图在中国西安、距离当地三星电子半导体工厂仅1.5公里处建设一座与三星电子相同的半导体工厂，因而被检方拘捕并提起公诉。

韩国半导体产业协会常务安基贤14日做客SBS广播电台《Kim Taehyun的政治秀》节目时表示，“（崔某）是一位出色的技术人员”，“通过技术开发作出了很多贡献”。

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他称：“他对韩国半导体产业贡献巨大，从国家和产业层面本应予以包容，但未能做到这一点，令人惋惜”，“因为他是面向中国开展支持半导体产业、半导体技术业务的人，所以事情才会发展到这一步，我是这样看的”。

关于泄露的技术和资料，他表示：“这些技术和资料是建设半导体制造设施时必不可少的”，“半导体制造设施是无尘室（洁净室）设施，而在洁净室内，如何配置各类工艺、空调环境以及设备等也极为重要，据说这些资料也都包含在内，因此只要掌握这些资料，就可以建起工厂”。

安常务指出，如果复制版工厂真的建成，韩国半导体产业将遭受巨大损失，“一旦出现竞争，技术差距就会缩小，而技术差距缩小的同时，我们的相对技术竞争力就会下降”。他接着表示：“从长期来看，（中国）也可能形成一种环境，有朝一日会超越我们的技术”。

对于“是否可能利用仍留在中国的设计图再建其他复制工厂”的担忧，他表示：“从建厂本身来说是可以的”，但同时指出，“工厂需要设备，还要另外采购设备，受美国对外出口管制制度的限制，短期内并不容易”。

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此外，安常务还表示，中国为挖走韩国半导体核心人才，往往会开出高额年薪，主张有必要采取措施防止人才外流。他说：“第一，要让他们能够怀着自豪感工作”，“第二，要让他们在韩国所具备的技术能力，能够在韩国长期转化为就业岗位”。

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